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等离子体cvd设备 等离子体cvd设备的缺点

微星自动化 2024-01-23 16:55 108

大家好,今天微星自动化(http://wxdcn.com/)小编关注到一个比较有意思的话题,就是关于等离子体cvd设备的问题,于是微星自动化小编就整理了3个相关介绍等离子体cvd设备的解答,让我们一起看看吧。

文章目录:

  1. 什么是 PEVCD
  2. 什么是PVD抛光镀膜技术
  3. 人造金刚石的制作方法是怎么样的?做出来的金刚石最大可以达到多大?_百度...

一、什么是 PEVCD

PECVD方法区别于其它CVD方法的特点在于等离子体中含有大量高能量的电子,它们可以提供过程所需的激活能。电子与气相分子的碰撞可以促进气体分子的分解、化合、激发和电离过程,生成活性很高的各种化学基团,因而显著降低CVD薄膜沉积的温度范围,使得原来需要在高温下才能进行的CVD过程得以在低温实现。由于PECVD方法的主要应用领域是一些绝缘介质薄膜的低温沉积,因而PECVD技术中等离子体的产生也多借助于射频的方法。本实验室使用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD),射频电源采用电容耦合方式,射频频率为27.12MHz。

二、什么是PVD抛光镀膜技术

PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写,中文意思是“物理气相沉积”,是指在真空条件下,用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。

离子镀膜(PVD镀膜)技术,其原理是在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离,在电场的作用下,使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。

采用PVD镀膜技术镀出的膜层,具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点,膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。

PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法,它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等)、氮化物膜(TiN[钛金]、ZrN〔锆金〕、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN),以及氧化物膜(如TiO等)。

PVD镀膜膜层的厚度为微米级,厚度较薄,一般为0.1μm~5μm,其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.1μm~1μm,因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能,并能够维持工件尺寸基本不变,镀后不需再加工。

ABS、PC、ABS+PC塑料底材UV真空镀膜表面出现油点、油窝问题的解决方法:

等离子体cvd设备    等离子体cvd设备的缺点

UV真空镀膜为什么要除油?

1.塑料注塑成型使用脱模剂等导致塑料表面沾有油污,是电镀不良缺陷主要的原因。在塑料表面电镀罩UV光油的表面处理工艺中,塑料注塑成型工艺中脱模剂残留在塑料表面导致电镀不良是较为常见的.

2.脱模剂能够对塑料模具成型的塑料提供快捷有效的脱模作用,而残留在塑料制品表面的脱模剂油污,会在材质表面形成分布不均匀的油花或者油点。

静川化工UV真空镀膜处理剂的应用:

白电油浸泡除油方法,安全性能成为较大的隐患,除油效果不稳定,施工工艺繁琐,造成影响电镀效果的因素增多,没有足够的市场经验和实验基础,且无法达到环保标准需求。但是静川化工UV真空镀膜处理剂则只需喷涂的电镀除油剂,操作工艺简单,能够配合线体进行施工,遮盖油污能力强,无卤通过RoHS检测,已通过大量的市场应用证明,除油效果稳定,效率高,无卤环保,提升良率幅度大。

三、人造金刚石的制作方法是怎么样的?做出来的金刚石最大可以达到多大?_百度...

楼主你好!人造的是用石墨,金刚石的同素异形体的一种物质在一定大气压的作用下形成,但是硬度还是比金刚石小,虽然说硬度也比较大。你说最大可以多大,如果你说的是形状大小,那就不得而知了,那要看怎么个法子。

100克拉

我国科研好像使用CCl4跟Na用武兹反应做

做出来的都是很小的,都是些碎石,工业用的都是拼起来的,但用途已经很广泛

现在尚未研制出大规模生产较大整块状的人造金刚石

人造金刚石的方法有很多种,主要的就是HTHP(高温高压)法、CVD(化学气相沉积)法两种:

1950年,瑞典ASEA(Allmanna Svenska Elektriska Aktiebolaget)实验室的研究人员成功的制备出第一颗金刚石。

早期最为经典的制备方法为高温高压(HTHP)合成金刚石法,但是合成HTHP金刚石因需较高的能量,加大了成本的投入,而添加的催化剂也给人造金刚石引入了杂质。而与之不同的CVD方法无论在成本、合成条件及金刚石质量上都有更大的优势,因而引起了科学界的广泛关注。

其中CVD的方法中常见的为热丝直流等离子体(HFCVD)法、微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法、直流电弧等离子体喷射(DC Arc plasma jet CVD)法等。其中微波等离子体法是目前比较理想的制备方法。

高质量的金刚石即可加工为钻石,目前国内技术还无法实现大批量的生产,而国外在这方面已经达到了商业化水平,美国的Apollo Diamond公司利用微波等离子体CVD法进行同质外延,生长出能与天然钻石媲美的人工钻石。由于该方法制备出的金刚石十分完美,美国GIA(Gemological Institute of America)只能通过其内部是否包含缺陷等方法来区别天然金刚石和CVD人造钻石。

想了解的更专业些就看哈相关文献,我的研究方向是低温制备金刚石

到此,以上就是微星自动化小编对于等离子体cvd设备的问题就介绍到这了,希望介绍关于等离子体cvd设备的3点解答对大家有用。

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