等离子体刻蚀（也称干法刻蚀）是集成电路制造中的关键工艺之一，其目的是完整地将掩膜图形复制到硅片表面，其范围涵盖前端CMOS栅极（Gate）大小的控制，以及后端金属铝的刻蚀及Via和Trench的刻蚀。大家好，今天微星自动化（http://w...
大家好，今天微星自动化小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于等离子表面刻蚀的问题，于是微星自动化小编就整理了4个相关介绍等离子表面刻蚀的解答，让我们一起看看吧。干法刻蚀原理等离子是什么意思什么叫刻蚀机铝片等离子表面处理原理干法刻蚀原理其原...
等离子表面处理原理就是等离子温度接近室温，这些优点为热敏性高分子聚合物表面改性提供了适宜的条件。通过低温等离子体表面处理，材料表面发生多种的物理、化学变化，或产生刻蚀而粗糙，或形成致密的交联层，或引入含氧极性基团。大家好，今天微星自动化小编...
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