等离子体镀膜设备

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    对于磁控溅射镀膜,由于阴极靶面电磁场的非均匀分布,造成等离子体密度的分布不均,最终导致靶原子的不均匀溅射和不均匀沉积。可以通过改进磁路布置,优化靶的设计来提高薄膜均匀性。也可以增加遮挡机构10',采用旋转基片。大家好,今天微星自动化...