等离子体镀膜设备 等离子体镀膜设备生产厂家

对于磁控溅射镀膜，由于阴极靶面电磁场的非均匀分布，造成等离子体密度的分布不均，最终导致靶原子的不均匀溅射和不均匀沉积。可以通过改进磁路布置，优化靶的设计来提高薄膜均匀性。也可以增加遮挡机构10'，采用旋转基片。

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