等离子刻蚀机 等离子刻蚀机和光刻机的区别

大家好，今天微星自动化（http://wxdcn.com/）小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于等离子刻蚀机的问题，于是微星自动化小编就整理了3个相关介绍等离子刻蚀机的解答，让我们一起看看吧。

文章目录：

1. 等离子蚀刻机(干刻)与等离子清洗机是一件事吗
2. LamRainbow4620等离子刻蚀机原装配件哪里可以维修?
3. LamRainbow4520等离子刻蚀机配件全国哪里有现货?

一、等离子蚀刻机(干刻)与等离子清洗机是一件事吗

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等离子刻蚀机主要采用射频等离子源（也有采用微波离子源）激发反应气体产生等气体离子对目标物进行物理轰击，以达到去除指定物质手段。因为反应力度要求较大，所以等离子刻蚀机基本是采用RF射频等离子发生方式。同理，如果控制等离子源功率和其他相关参数可以降低反应力度，从而也可以对一般电子元件进行清洗去除污染物。从这层作用来讲他们可以共用。

但是在半导体生产过程中，刻蚀和清洗两个工作步骤往往分开的，不共用同一套设备。为了避免物理轰击对元件成型电路带来不可预知的损伤，现在等离子清洗机主流逐渐采用微波等离子清洗机(可百度搜索)了。它的优势是表面电子能比RF少2个数量级，因此可以说对目标物能达到无损。

二、LamRainbow4620等离子刻蚀机原装配件哪里可以维修?

刻蚀机，顾名思义，对应的是芯片制造中的“刻蚀”这一步。

在芯片制造中，“光刻”和“刻蚀”是两个紧密相连的步骤，也是非常关键的步骤。

刻蚀设备的发展和光刻技术，互连技术密切相关。High K / Low K材料，铜互连，Metal Gate，double Pattern等技术的发展都对刻蚀设备提出了新的需求·

等离子干法刻蚀技术是利用等离子体进行薄膜微细加工的技术。在典型的干法刻蚀工艺过程中，一种或多种气体原子或分子混合于反应腔室中，在外部能量作用下（如射频、微波等）形成等离子体，干法刻蚀技术由于具有良好的各向异性和工艺可控性已被广泛应用于微电子产品制造领域，凭借在等离子体控制、反应腔室设计、刻蚀工艺技术、软件技术的积累与创新.

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三、LamRainbow4520等离子刻蚀机配件全国哪里有现货?

刻蚀工艺通过选择性地移除沉积过程中添加的介电（绝缘）材料和金属（导电）材料，协助形成芯片构件。这些工艺涉及使用多种材料制造越来越小、越来越复杂的高窄形构件。采用的主要技术为反应离子刻蚀（RIE），该技术用离子（带电粒子）轰击硅片表面，以移除相应的材料。对于最微小的构件，原子层刻蚀（ALE）可以一次移除数层原子层。导体刻蚀工艺精确地形成晶体管等重要电气组件，介电质刻蚀工艺则形成保护导电部分的绝缘结构。利用刻蚀工艺还可形成高柱状构件，如硅通孔（用于连接芯片）和微机电系统（MEMS）中所用构件。

Lam Rainbow 4520 等离子刻蚀机概述：

Lam Rainbow 4520刻蚀机是全自动，单片等离子/反应离子刻蚀系统，适用6”或8”晶片，主要特点：上下电极驱动板，可调节电极间距，非接触式全自动调整晶片位置。独特的射频匹配网络位于上下电极，可编程调节等离子和反应离子刻蚀两种模式。通过电脑控制，可调手动或自动模式。制造商: Lam Research、晶圆尺寸: 4″/5″/6″/8″

传片系统: 全自动, 原装机械传片系统、等离子电源: 射频,400kHz、类型: 晶圆水平放置，单片工艺，等离子刻蚀，反应离子刻蚀，独立机台、刻蚀材料：二氧化硅

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到此，以上就是微星自动化小编对于等离子刻蚀机的问题就介绍到这了，希望介绍关于等离子刻蚀机的3点解答对大家有用。