微星自动化提供各类等离子表面处理机,包括真空、低温、大气等多种型号,为您解决金属表面处理难题,满足不同需求。
微星自动化 2024-03-03 09:54 154
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等离子表面处理原理就是等离子温度接近室温,这些优点为热敏性高分子聚合物表面改性提供了适宜的条件。
通过低温等离子体表面处理,材料表面发生多种的物理、化学变化,或产生刻蚀而粗糙,或形成致密的交联层,或引入含氧极性基团,使亲水性、粘结性、可染色性、生物相容性及电性能分别得到改善。
工艺
等离子处理是最有效的对表面进行清洗、活化和涂层的处理工艺之一,可以用于处理各种材料,包括塑料、金属或者玻璃等。
等离子处理机对表面清洗,可以清除表面上的脱模剂和添加剂等,而其活化过程,则可以确保后续的粘接工艺和涂装工艺等的品质,对于涂层处理而言,则可以进一步改善复合物的表面特性。使用这种等离子技术,可以根据特定的工艺需求,高效地对材料进行表面预处理。
以上内容参考:
普特勒电气科技公司专注于等离子技术产品的研发、应用与生产,通过等离子技术的进步,可以取代原有的低效率、重污染、高成本的生产工艺环节,为各个领域的工艺优化提供更好的方案。
主要技术产品:
低温大气射频辉光等离子技术
低温大气射流等离子技术
低温中频真空等离子技术
低温射频真空等离子技术
PTL--普特勒低温大气射频辉光等离子技术
PTL普特勒公司通过多年射频电源的研发经验及对放电控制技术深入实验,成功实现了在大气压下的射频均匀辉光放电,使射频辉光放电不再需要真空状态,实现了最大2000mm的宽幅均匀辉光放电,并在多个领域实现应用。系统使用方便、性能稳定、低耗高效。
PTL-普特勒低温大气射频辉光等离子系统的应用领域
FPD 方面
LCD, LTPS, OLED等各种基板玻璃表面清洗和连接前工艺的设备,不需要真空排气。采用均匀大气压等离子,以大气压等离子的问题点Stremer或者Arc的产生为准则阻断,基板上无损坏的表面清洗工艺。另外多元电极和原有大气压等离子技术相比,扩张性比较容易,所以从第一代较小的基板开始到第十代3000mm扩大的大型基板都可以使用。
TSP 方面
触摸屏的主要工艺的清洗,提高OCA/OCR,压层,ACF,AR/AF涂层等工艺上的粘合力/涂层力,为去除气泡/异物,通过多种大气压等离子形态的运用,可以将各种玻璃,薄膜均匀的大气压等离子放电使表面无损坏进行处理。
半导体 方面
半导体成型工艺,刻模工艺&焊接工艺,焊球连接&安装工艺的广泛使用可以提高芯片和环氧间的粘结力,和引线框架的安装和粘接力,板材和焊球之间的粘结力。防止半导体特性上的电气损坏或者容易发生的静电问题 ,可以采用多元系统技术。另外,因为可以根据硅片的大小制造大气压等离子,无论多小的等离子都可以适用。
等离子表面处理机是一种利用等离子体在物体表面产生化学反应的技术,用于表面处理、清洗、改性等领域。选择等离子表面处理机需要考虑以下几个方面:
在选等离子表面处理机的时候应该要格外的慎重,有一些品牌纯属是浑水摸鱼。
建议在挑选时优先考虑三和波达,该厂家所获得的用户评价高,购买不会踩雷。
等离子清洗机工作原理分析:
等离子体是物质的一种存在状态,通常物质以固态、液态、气态三种状态存在,但在一些特殊的情况下有第四种状态存在,如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质:处于高速运动状态的电子;处于激活状态的中性原子、分子、原子团(自由基);离子化的原子、分子;未反应的分子、原子等,但物质在总体上仍保持电中性状态。
给气态物质更多的能量,比如加热,将会形成等离子体。当到达等离子状态时,气态分子裂变成了许许多多的高度活跃的粒子。这些裂变不是永久的,一旦用于形成等离子体的能量消失,各类粒子重新结合,形成原来的气体分子。与湿法清洗不同,等离子清洗的机理是依靠处于“等离子态”的物质的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。从目前各类清洗方法来看,等离子体清洗也是所有清洗方法中最为彻底的剥离式的清洗方式。
等离子清洗机一般是利用激光、微波、电晕放电、热电离、弧光放电等多种方式将气体激发成等离子状态。
等离子清洗机的清洗原理是在真空腔体里,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面,以达到清洗目的。
在这种情况下,等离子处理可以产生以下效果:
1、灰化表面有机层
污染物在真空和瞬时高温下的部分蒸发,污染物被高能离子粉碎并被真空带走。
紫外辐射破坏污染物,由于等离子体处理每秒钟只能穿透几纳米,所以污染层不应该太厚。指纹也适用。
2、氧化物去除
这种处理包括使用氢或氢和氩的混合物。有时也采用两步流程。第一步是用氧气氧化表面5分钟,第二步是用氢和氩的混合物除去氧化层。它也可以同时用几种气体处理。
3、焊接
通常,应在焊接前用化学药剂处理。焊接后,这些化学物质必须用等离子体法去除,否则会引起腐蚀和其他问题。
扩展资料
等离子清洗/刻蚀机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场,用实现一定的,随着气体愈来愈稀薄,分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长。
受电场作用,它们发生碰撞而形成等离子体,这些离子的活性很高,其能量足以破坏几乎所有的,在任何暴露的表面引起,不同气体的等离子体具有不同的化学性能,如氧气的等离子体具有很高的氧化性,能氧化反应生成气体,从而达到清洗的效果;腐蚀性气体的等离子体具有很好的各向异性,这样就能满足刻蚀的需要。
利用等离子处理时会发出辉光,故称之为辉光放电处理。
等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型,均可进行处理,对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料,如、聚酯、、聚氯乙烷、环氧、甚至等都能很好地处理,并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。
参考资料来源:
到此,以上就是微星自动化小编对于微型等离子处理机的问题就介绍到这了,希望介绍关于微型等离子处理机的4点解答对大家有用。
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