反应式等离子体镀膜设备 反应式等离子体镀膜设备英文全称

镀膜机RF源运用于高度控制的光学镀膜的离子束辅助沉积或离子束沉积。RF离子源首先使用13.56MHz高频信号激励电离子体，产生等离子体，然后分别抽出离子、电子，让其在空间内中和形成等离子体的高能离子源。

大家好，今天微星自动化（http://wxdcn.com/）小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于反应式等离子体镀膜设备的问题，于是微星自动化小编就整理了5个相关介绍反应式等离子体镀膜设备的解答，让我们一起看看吧。

文章目录：

1. 镀膜机RF源作用
2. PVD镀膜设备有哪些?
3. 真空镀膜机的原理
4. 等离子清洗机是干什么用的?它的功能和作用是什么?
5. 等离子刻蚀机的等离子刻蚀机的应用

一、镀膜机RF源作用

镀膜机RF源运用于高度控制的光学镀膜的离子束辅助沉积或离子束沉积。RF离子源首先使用13.56MHz高频信号激励电离子体，产生等离子体，然后分别抽出离子、电子，让其在空间内中和形成等离子体的高能离子源。

镀膜机常用的几种镀膜方法

镀膜机镀工件，有好几种镀膜方式，需要根据产品工件的特性，以及要到达的效果和使用环境去选择镀膜方式的，需要的效果不一样，采用的镀膜工艺是有差别的。真空蒸发、溅射、离子镀（空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀）。

镀膜机电弧离子镀是通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态，从而完成薄膜材料的沉积，该技术材料的离化率更高，薄膜性能更加优异。

二、PVD镀膜设备有哪些?

PVD即物理气相沉积，是当前国际上广泛应用的先进的表面处理技术。其工作原理就是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。它具有沉积速度快和表面清洁的特点，特别具有膜层附着力强、绕性好、可镀材料广泛等优点。 采用全球先进的磁控溅射离子镀膜和多弧离子镀膜工艺设备，及在此基础之上与国际专家的工艺创新。凭借在装饰镀行业十多年的宝贵经验，为客户提供最适合的涂层加工方案。

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三、真空镀膜机的原理

真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。

基片与靶材同在真空腔中。

蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。

对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜

PE-CVD450型真空镀膜机是在真空状态下等离子体增强化学气相沉积的设备。真空镀膜技术属于气相沉积技术，这是利用各种材料在气相间、气象和固体机体表面所产生的物理、化学过程而沉积薄膜的方法。分为物理气相沉积、化学气相沉积、物理化学气相沉积。根据化学反应的能量来自加热、光照、等离子体，因此化学气相沉积又可分为热CVD光CVD和等离子体CVD

四、等离子清洗机是干什么用的?它的功能和作用是什么?

等离子清洗机作用等离子清洗机作用主要体现在以下几个方面：

等离子表面活化/清洗;等离子蚀刻/活化;等离子去胶;等离子涂镀（亲水，疏水）;增强邦定性;等离子灰化和表面改性等大规模生产场合，通过其处理，能够改善材料表面的浸润能力，使多种材料能够进行涂覆、镀等操作，增强黏合力，键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂。

等离子清洗机之所以能产生上述作用效果，全靠神奇的等离子体在其中起到至关重要的作用。

等离子体和工件表面的化学反应和常规化学反应有很大不同，由于高速电子的轰击，很多在常温下很稳定的气体或蒸汽都可以以等离子体的形式和工件表面反应，产生许多奇特的、有用的效果；

清洗和刻蚀：

例如，在进行清洗时，工作气体往往用氧气，它被加速了的电子轰击成氧离子、自由基后，氧化性极强。工件表面的污染物，如油脂、助焊剂、感光膜、脱模剂、冲床油等，很快就会被氧化成二氧化碳和水，而被真空泵抽走，从而达到清洁表面，改善浸润性和粘结性的目的。低温等离子处理仅涉及材料的表面，不会对材料主体的性质产生影响。由于等离子体清洗是在高真空下进行的，所以等离子体中的各种活性离子的自由程很长，他们的穿透和渗透力很强，可以进行复杂结构的处理，包括细管和盲孔。

引入官能基团：

高分子材料用N2、NH3、O2、SO2等气体的等离子体处理，可以改变表面的化学组成，引入相应新的官能基团：-NH2、-OH、-COOH、-SO3H等。这些官能团可使聚乙烯，聚丙烯，聚苯乙烯，聚四氟乙烯等这些完全惰性的基材变成官能团材料，可以提高表面极性，浸润性，可粘结性，反应性，极大地提高了其使用价值。与氧等离子体相反，而经含氟气体的低温等离子体处理，可在基材表面引入氟原子，使基材具有憎水性。

聚合：

很多乙烯基单体，如，乙烯、苯乙烯、都可以在等离子体条件下，不要其他任何催化剂和引发剂而在工件表面实现，聚合，甚至甲烷，乙烷，苯这些在常规聚合条件下不能聚合的物质，都可以在等离子体条件下在工件表面实现交联聚合。这种聚合层可以达到非常致密，并且和基材结合的非常结实。在国外塑料啤酒瓶和汽车油箱就采用等离子体聚合上这样一层致密层，用以防治微量的泄露。高分子的生物医学材料表面也可以通过这种致密层阻止塑料中的增塑剂等有毒物质向人体组织中扩散。光学元件常可用等离子体聚合方法在表面加上。

五、等离子刻蚀机的等离子刻蚀机的应用

等离子体处理可应用于所有的基材，甚至复杂的几何构形都可以进行等离子体活化、等离子体清洗，等离子体镀膜也毫无问题。等离子体处理时的热负荷及机械负荷都很低，因此，低压等离子体也能处理敏感性材料。等离子刻蚀机的典型应用包括：

等离子体清除浮渣

光阻材料剥离

表面处理

各向异性和各向同性失效分析应用材料改性

包装清洗

钝化层蚀刻

聚亚酰胺蚀刻

增强粘接力

生物医学应用

聚合反应

混合物清洗

预结合清洗

到此，以上就是微星自动化小编对于反应式等离子体镀膜设备的问题就介绍到这了，希望介绍关于反应式等离子体镀膜设备的5点解答对大家有用。