反应式等离子体镀膜设备(反应式等离子体镀膜设备英文全称)

镀膜机RF源运用于高度控制的光学镀膜的离子束辅助沉积或离子束沉积。RF离子源首先使用13.56MHz高频信号激励电离子体，产生等离子体，然后分别抽出离子、电子，让其在空间内中和形成等离子体的高能离子源。

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