cvd等离子体设备 crt 等离子

1PECVD工艺的基本原理PECVD技术是在低气压下，利用低温等离子体在工艺腔体的阴极上（即样品放置的托盘）产生辉光放电，利用辉光放电（或另加发热体）使样品升温到预定的温度，然后通入适量的工艺气体。大家好，今天微星自动化（http://w...