中国等离子刻蚀机 中国等离子刻蚀机最好的公司

▲半导体器件工艺制程从14纳米微缩到5纳，等离子蚀刻步骤会增加三倍 刻蚀机是芯片制造的关键设备之一，曾一度是发达国家的出口管制产品。中微半导体联合创始人倪图强表示。

大家好，今天微星自动化（http://wxdcn.com/）小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于中国等离子刻蚀机的问题，于是微星自动化小编就整理了3个相关介绍中国等离子刻蚀机的解答，让我们一起看看吧。

文章目录：

1. 什么是中国光刻机?
2. 被称为芯片的“魄”,国产蚀刻机在世界上处于什么水平?
3. 打工16年,中国学生回国后造出5nm蚀刻机,美炸锅,为什么呢?

一、什么是中国光刻机?

 018年12月，中微半导体设备（上海）有限公司自主研制的5纳米等离子体刻蚀机经台积电验证，性能优良，将用于全球首条5纳米制程生产线。5纳米，相当于头发丝直径（约为0.1毫米）的二万分之一，将成为集成电路芯片上的最小线宽。台积电计划2019年进行5纳米制程试产，预计2020年量产。

▲半导体器件工艺制程从14纳米微缩到5纳，等离子蚀刻步骤会增加三倍

刻蚀机是芯片制造的关键设备之一，曾一度是发达国家的出口管制产品。中微半导体联合创始人倪图强表示，中微与科林研发(Lam

Research)、应用材料(Applied Materials)、东京威力科创(Tokyo Electron

Limited）、日立全球先端科技 (Hitachi High-Technologies)

4家美日企业，组成了国际第一梯队，为7纳米芯片生产线供应刻蚀机。中微半导体如今通过台积电验证的5纳米刻蚀机，预计能获得比7纳米更大的市场份额。

中科院SP超分辨光刻机

提问者所说的中国光刻机达到世界先进水平，应该是指2018年11月29日通过验收的，由中国科学院光电技术研究所主导、经过近七年艰苦攻关研制的“超分辨光刻装备”项目。

该项目下研制的这台光刻机是“世界上首台分辨力最高的紫外(即22纳米@365纳米)超分辨光刻装备”。这是一种表面等离子体（surfaceplasma，SP）超分辨光刻装备。

▲中科院研制成功并通过验收的SP光刻机

该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片。

▲中科院研发的光刻机镜头

目前这个装备已制备出一系列纳米功能器件，包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片、超表面成像器件等，也就是说，目前主要是一些光学等领域的器件。验证了该装备纳米功能器件加工能力，已达到实用化水平。

▲中科院SP光刻机加工的样品

然而，此次验收合格的中科院光电技术研究所的这台表面等离子超衍射光刻机（SP光刻机）的加工精度与ASML的光刻机没法比。没法用于刻几十纳米级的芯片，至少以现在的技术不能。

据光电所专家称，该所研制成功的这种SP光刻机用于芯片制造上还需要攻克一系列的技术难题，目前距离还很遥远。也就是说中科院研制的这种光刻机不能（像一些网媒说的）用来光刻CPU。它的意义是用便宜光源实现较高的分辨率，用于一些特殊制造场景，很经济。

总之，中科院的22纳米分辨率光刻机跟ASML垄断的光刻机不是一回事，说前者弯道超车，就好像说中国出了个竞走名将要超越博尔特。

显然，中科院研制成功的这台“超分辨光刻装备”并不能说明我国在市场主流的的光刻机研制方面已经达到了世界先进水平，那么现阶段我国的光刻机的真实水平又是怎样的呢？且看以下对比。

二、被称为芯片的“魄”,国产蚀刻机在世界上处于什么水平?

目前的水平还是领先的吧，毕竟国产正在崛起的

为什么有人说国内芯片产业还有很长的路要走？中国的刻蚀机确实达到了世界先进水平，而光刻机还很早，即使两者都是世界先进水平，也并不意味着中国芯片工业的未来不会很难。

目前，国内的刻蚀机确实处于领先地位，5纳米等离子刻蚀机已经通过台积电的验证，但光刻机更差。前次报告中提到的“中科院SP超分辨率光刻机”最多只能算是一个“样机”，无法与ASML光刻机相比，也无法用于芯片制造，一系列技术问题亟待解决。

退一步说，即使国产光刻机和蚀刻机已经达到世界领先地位，问题是否已经解决？ASML的EUV光刻机已订购交付。我们能在交货后生产7Nm甚至5nm的芯片吗？别把这个问题想得那么简单，因为只有用于芯片的光刻机和蚀刻机。芯片制造的技术、经验、技术和人才是一项系统工程。台积电不是一天建成的。有了光刻机，我们就不能制造顶级芯片。

再退一步讲如果一流光刻机和刻蚀机都国产，台积电也变成了国产企业，国产的芯片业就独步天下了么？当然不是，我们还需要高通、苹果、英伟达、英特尔、赛灵思、德州仪器这样的芯片设计、研发、制造和销售公司来打造整个芯片行业的产业链。芯片行业的产业链非常长，不是靠几台光刻机和刻蚀机就能解决问题了，上、中、下游都有众多厂商在其中竞争搏杀，从这个意义上来讲，国产的芯片行业并非全面落后，但前路的确依旧艰辛，需要我们继续努力！！

三、打工16年,中国学生回国后造出5nm蚀刻机,美炸锅,为什么呢?

打工的时候就已经有了创想，只是回来想为祖国更好的发展。

由任正非领导的华为公司，近年来披荆斩棘攻克了不少技术性难题，并为中国带来了独立自主的5G技术。华为公司迅猛的发展势头受到了来自美国的注视，美国也一直在试图打压华为公司。其实国内还有好多“默默无闻”，埋头攻关的科技公司，他们之所以如此低调，为的就是不被美国盯上。

在这些科技公司中，有一家位于中国上海的中微半导体设备有限公司尤为典型。该公司由尹志尧创立，提到这位创办人，他的来头可不小。从中国科学技术大学毕业后的他前往美国继续深造学习，获得博士学位后曾在硅谷工作。一干就是16年，美国善用外籍人员却也一向对外籍人员保密关键技术，但尹志尧凭借自己的努力取得了不错了成果，并且还被称之为“半导体最成功的硅谷华人”。即使在硅谷打工了16年，尹志尧依旧心系祖国，他本人曾说：“我给外国人做了几十年嫁衣了，是时候报效祖国了”。

回国之后的尹志尧，创立了中微公司。创立中微公司之后，尹志尧还面临着各种各样的问题。首先，就是资金的问题。成立之后的中微，每年只有不到5000万美金的研发资金。或许很多人觉得5000万美金已经是个不小的数目了，但实际上这还不到美国在此领域投入的二十分之一。

但就是在这种条件下，中微公司相继研发出了65/45/28/20/14/10/7纳米工艺制程的一系列等离子刻蚀设备。一系列研究的成功，正是在践行着尹志尧“与国际先进水平接轨”的诺言。也正是研究的成功，又让美国注意到了中微公司。美国科技界发现中微公司的科技成就后可以说是炸了锅，并直呼：不该忘了他！

对此美国也迅速做出了行动，妄图阻止中微公司的继续发展。但中微公司做到了蚍蜉撼大树，不仅躲过了美国的打击，还超过了美国当前的发展。2017年4月，中微公司正式宣布掌握5nm技术，还将发布5nm刻蚀机。这一宣布也昭示着我国在纳米科技上突破了美国的垄断，走上了半导体的科技顶峰。尹志尧的成就令美国后悔不已，直呼不该忘了他的同时也应该意识到美国对于人才流失的关注。要知道，科技人才对一个国家来说是十分重要的资源，一个人才的流失就可能是一个领域的落后。

中国的科技强国战略和人才强国战略在近年来不断得到贯彻落实，选择回到祖国发展的科技人才也在不断增多。中微公司的发展正是我国科技发展的缩影，相信在不久的将来，中国科技的整体发展将更上一层楼。美国一系列试图阻止的行为，也必将化为泡影。

到此，以上就是微星自动化小编对于中国等离子刻蚀机的问题就介绍到这了，希望介绍关于中国等离子刻蚀机的3点解答对大家有用。