中国等离子刻蚀机(中国等离子刻蚀机最好的公司)

目前，国内的刻蚀机确实处于领先地位，5纳米等离子刻蚀机已经通过台积电的验证，但光刻机更差。前次报告中提到的“中科院SP超分辨率光刻机”最多只能算是一个“样机”，无法与ASML光刻机相比，也无法用于芯片制造。

大家好，今天微星自动化小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于中国等离子刻蚀机的问题，于是微星自动化小编就整理了3个相关介绍中国等离子刻蚀机的解答，让我们一起看看吧。

文章目录：

1. 被称为芯片的“魄”,国产蚀刻机在世界上处于什么水平?
2. 什么是中国光刻机?
3. 60岁博士尹志尧弃美回国,破冰芯片关键技术,打破美方技术垄断

一、被称为芯片的“魄”,国产蚀刻机在世界上处于什么水平?

为什么有人说国内芯片产业还有很长的路要走？中国的刻蚀机确实达到了世界先进水平，而光刻机还很早，即使两者都是世界先进水平，也并不意味着中国芯片工业的未来不会很难。

目前，国内的刻蚀机确实处于领先地位，5纳米等离子刻蚀机已经通过台积电的验证，但光刻机更差。前次报告中提到的“中科院SP超分辨率光刻机”最多只能算是一个“样机”，无法与ASML光刻机相比，也无法用于芯片制造，一系列技术问题亟待解决。

退一步说，即使国产光刻机和蚀刻机已经达到世界领先地位，问题是否已经解决？ASML的EUV光刻机已订购交付。我们能在交货后生产7Nm甚至5nm的芯片吗？别把这个问题想得那么简单，因为只有用于芯片的光刻机和蚀刻机。芯片制造的技术、经验、技术和人才是一项系统工程。台积电不是一天建成的。有了光刻机，我们就不能制造顶级芯片。

再退一步讲如果一流光刻机和刻蚀机都国产，台积电也变成了国产企业，国产的芯片业就独步天下了么？当然不是，我们还需要高通、苹果、英伟达、英特尔、赛灵思、德州仪器这样的芯片设计、研发、制造和销售公司来打造整个芯片行业的产业链。芯片行业的产业链非常长，不是靠几台光刻机和刻蚀机就能解决问题了，上、中、下游都有众多厂商在其中竞争搏杀，从这个意义上来讲，国产的芯片行业并非全面落后，但前路的确依旧艰辛，需要我们继续努力！！

二、什么是中国光刻机?

 018年12月，中微半导体设备（上海）有限公司自主研制的5纳米等离子体刻蚀机经台积电验证，性能优良，将用于全球首条5纳米制程生产线。5纳米，相当于头发丝直径（约为0.1毫米）的二万分之一，将成为集成电路芯片上的最小线宽。台积电计划2019年进行5纳米制程试产，预计2020年量产。

▲半导体器件工艺制程从14纳米微缩到5纳，等离子蚀刻步骤会增加三倍

刻蚀机是芯片制造的关键设备之一，曾一度是发达国家的出口管制产品。中微半导体联合创始人倪图强表示，中微与科林研发(Lam

Research)、应用材料(Applied Materials)、东京威力科创(Tokyo Electron

Limited）、日立全球先端科技 (Hitachi High-Technologies)

4家美日企业，组成了国际第一梯队，为7纳米芯片生产线供应刻蚀机。中微半导体如今通过台积电验证的5纳米刻蚀机，预计能获得比7纳米更大的市场份额。

中科院SP超分辨光刻机

提问者所说的中国光刻机达到世界先进水平，应该是指2018年11月29日通过验收的，由中国科学院光电技术研究所主导、经过近七年艰苦攻关研制的“超分辨光刻装备”项目。

该项目下研制的这台光刻机是“世界上首台分辨力最高的紫外(即22纳米@365纳米)超分辨光刻装备”。这是一种表面等离子体（surfaceplasma，SP）超分辨光刻装备。

▲中科院研制成功并通过验收的SP光刻机

该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片。

▲中科院研发的光刻机镜头

目前这个装备已制备出一系列纳米功能器件，包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片、超表面成像器件等，也就是说，目前主要是一些光学等领域的器件。验证了该装备纳米功能器件加工能力，已达到实用化水平。

▲中科院SP光刻机加工的样品

然而，此次验收合格的中科院光电技术研究所的这台表面等离子超衍射光刻机（SP光刻机）的加工精度与ASML的光刻机没法比。没法用于刻几十纳米级的芯片，至少以现在的技术不能。

据光电所专家称，该所研制成功的这种SP光刻机用于芯片制造上还需要攻克一系列的技术难题，目前距离还很遥远。也就是说中科院研制的这种光刻机不能（像一些网媒说的）用来光刻CPU。它的意义是用便宜光源实现较高的分辨率，用于一些特殊制造场景，很经济。

总之，中科院的22纳米分辨率光刻机跟ASML垄断的光刻机不是一回事，说前者弯道超车，就好像说中国出了个竞走名将要超越博尔特。

显然，中科院研制成功的这台“超分辨光刻装备”并不能说明我国在市场主流的的光刻机研制方面已经达到了世界先进水平，那么现阶段我国的光刻机的真实水平又是怎样的呢？且看以下对比。

三、60岁博士尹志尧弃美回国,破冰芯片关键技术,打破美方技术垄断

中微半导体可以说是我国芯片领域传奇般的存在 ， 面对美国甩出的三把制裁利刃，中微都能险之又险的躲过，并凭借自身过硬的技术实力研发出了等离子刻蚀机 ， 让美国都束手无策，美商业部更是将该技术从国家安全出口管制名单中剔除。

组建中微半导体公司的是有着国产设备界教父之称的尹志尧 ， 同时，他也是中国突破芯片技术垄断的第一人，究竟尹志尧和他的中微半导体在国内的分量有多重？他又是如何带领中微半导体从美国的三次专利大刀之下奇迹般脱身的呢？

中微半导体要做就做世界第一，做中国第一也会被别人替代 ， 这句话出自尹志尧的口中，这位半导体领域的既懂技术又懂得经营的大神 ， 已经专注等离子设备研发二十年之久，个人拥有的专利数多达六十多项 ， 原本他能很好的在美国做一个应用材料公司的副总裁 ， 只因他当年说出的一句誓言，决定只为他日归来，报效祖国。

早年，尹志尧出生在北京城内，大学毕业后 ， 在甘肃兰州炼油厂工作了近十年 ， 1978 年，他考入了北京大学化学系硕士 ， 在那他幸运的见到了一台内存只有一百二十 八 k 的国内最先进计算机，光是电子管做到占据了两栋大楼 ， 那场面着实震撼到了尹志尧。

在那时，他的心中就涌现出中国的电脑，要拥有更多内存运行更快的芯片的想法 ， 1980 年间，尹志尧父亲鼓励他去国外进修，于是尹志尧踏上了美国的 旅途， 在加利福尼亚大学洛杉矶分校攻读了博士，然后他就在硅谷内打拼 ，和快就得到了科林公司的赏识。

到科林工作后 ， 尹志尧用短短数年的时间，就开发出一系列成功的产品，一举帮助科林斩获全球百分之四十的市场 ， 这时新的挑战摆到尹志尧的面前，昔日霸主美国应用材料公司向尹志尧 抛 来橄榄枝 ， 希望能借助尹志尧让公司扭亏为盈。

1991 年，他到全球最大的半导体设备公司 ， 美国应用材料公司担任副总裁 ， 在这里，他参与了刻蚀机的研发工作 ， 仅仅几年的时间，尹志尧和他的伙伴们就研发出新的产品，一经问世，迅速占领全球百分之五十的市场份额 ， 这才是全市实际上到哪里都会发光的最佳案例。

2004 年，六十岁的尹志尧再次开启新的人生挑战，他放弃美国的百万年薪，带领三十人的创业团队返回中国 ， 回到国内后，尹志尧及其带回来的人共同创办了中微半导体设备公司 ， 不到三年的时间就做出了第一台国产的等离子体刻蚀机，并且采用了业内首创的双反应台，效率比国外同类型产品高出百分之三十。

很多人可能不清楚什么是等离子刻蚀机 是什么， 其实它也是芯片制造过程中最为关键的一步 ， 芯片制造不是说有了光刻机，所有问题就都能解决了 ， 芯片制造需要经过非常复杂的上百道工序 ， 只有光刻机是无法生产 的。

不过在美国应用材料公司的眼中 ， 不管你制作多么艰难，他都理所当然的认为尹志尧偷了他们的技术，进而对 中微 半导 体 提起了诉讼 ， 花费两年半的时间，彻查成为六百多万件文件和三十多人的电脑都没有找到关于美国应用材料的图纸、技术等数据。

西方国家的技术封锁只在短时间内有效 ， 长远来看，只会搬起石头砸自己的脚 ， 而技术上只有完全实现国产化，才能有足够的底气和这些西方无赖摆摆手腕， 中微在连续的官司内 名声大噪 ， 再加上设备质量过硬，不到十八个月的时间，就占据了国内百分之七十的市场份额，彻底改头换面了。

这绝对是国产半导体领域 ， 取得了一次不可思议的胜仗。前不久，中微半导体更是推出了国产五纳米 蚀刻机 ，并获得台积电的认可 ， 国产芯片的突破相信就在不远的前方了 ，虽然 说中微的五纳米克时机并不等于能做五纳米光刻机，但是它的出现意味着中国半导体领域向前跨越了意义重大的一步 ，是中国芯片崛起的必经之路。

到此，以上就是微星自动化小编对于中国等离子刻蚀机的问题就介绍到这了，希望介绍关于中国等离子刻蚀机的3点解答对大家有用。