等离子镀膜机 等离子镀膜机的原理

对于磁控溅射镀膜，由于阴极靶面电磁场的非均匀分布，造成等离子体密度的分布不均，最终导致靶原子的不均匀溅射和不均匀沉积。可以通过改进磁路布置，优化靶的设计来提高薄膜均匀性。也可以增加遮挡机构10'，采用旋转基片。

大家好，今天微星自动化（http://wxdcn.com/）小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于等离子镀膜机的问题，于是微星自动化小编就整理了2个相关介绍等离子镀膜机的解答，让我们一起看看吧。

文章目录：

1. 镀膜机RF源作用
2. 韩一镀膜机做完等离子后硅靶的真空度一直不够,怎么解决

一、镀膜机RF源作用

镀膜机RF源运用于高度控制的光学镀膜的离子束辅助沉积或离子束沉积。RF离子源首先使用13.56MHz高频信号激励电离子体，产生等离子体，然后分别抽出离子、电子，让其在空间内中和形成等离子体的高能离子源。

镀膜机常用的几种镀膜方法

镀膜机镀工件，有好几种镀膜方式，需要根据产品工件的特性，以及要到达的效果和使用环境去选择镀膜方式的，需要的效果不一样，采用的镀膜工艺是有差别的。真空蒸发、溅射、离子镀（空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀）。

镀膜机电弧离子镀是通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态，从而完成薄膜材料的沉积，该技术材料的离化率更高，薄膜性能更加优异。

二、韩一镀膜机做完等离子后硅靶的真空度一直不够,怎么解决

可以查查不做等离子也是一样吗？重新来一遍抽气过程真空度怎样？我觉得应该至少是从你说的这次等离子后有地方漏气，只能检漏，查找漏点；当然，粗抽泵、分子泵等泵也可以能有问题，但几率相对较小。

到此，以上就是微星自动化小编对于等离子镀膜机的问题就介绍到这了，希望介绍关于等离子镀膜机的2点解答对大家有用。