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等离子体处理技术(等离子体处理技术的影响因素)

微星自动化 2023-10-07 20:27 69

大家好,今天微星自动化小编关注到一个比较有意思的话题,就是关于等离子体处理技术的问题,于是微星自动化小编就整理了4个相关介绍等离子体处理技术的解答,让我们一起看看吧。

  1. 等离子表面处理机原理
  2. 氧等离子体处理原理
  3. 等离子清洗机工艺流程
  4. 等离子清洗的原理是什么

等离子表面处理机原理

等离子表面处理机的原理

等离子表面处理机的工作原理是将气体通过高频电场放电,产生等离子体。等离子体中的电子、离子、自由基等高能粒子与材料表面发生碰撞,将表面的污染物、氧化物等物质清除,同时激活表面分子,使其具有更强的反应性。此外,等离子体还能在表面形成一层薄膜,改变表面的化学性质,从而实现表面的改性。

氧等离子体处理原理

对于光氧等离子废气处理设备主要是利用了等离子分解技术和UV紫外光解技术结合,对废气和臭气进行协同净化处理:有机废气和恶臭气体进入集成设备后,经过UV紫外光束区时,被紫外光波率地照射,瞬间产生光解反应;经过等离子体电场时,在纳秒级时间范围内,产生裂变分解反应;如此协同地产生一系光解和分解反应,经过多级净化后从而达标排放。

等离子清洗机工艺流程

等离子清洗机是利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。

等离子清洗机工艺流程如下:

(1)被清洗的工件送入真空室并加以固定,启动运行装置,开始排气,使真空室内的真空程度达到10Pa 左右的标准真空度。一般排气时间人约需要2min。

  (2)向真空室引入等离子清洗用的气休,并使其压力保持在100Pa。根据清洗材质的不同,可分别选用氧气、氢气、氩气或氮气等气体。

  (3)在真空室内的电极与接地装置之间施加高频电压,使气体被击穿,并通过放电而发生离子化和产生等离子体。让在真空室产生的等离子体*笼罩在被处理工件,开始清洗作业。一股清洗处理持续几十秒到几分钟。

  (4)清洗完毕后切断高频电压,并将气体及汽化的污垢排出,同时向真空室内鼓入空气,并使气压升至一个大气压。

等离子清洗的原理是什么

等离子清洗机工作原理分析:

等离子体处理技术(等离子体处理技术的影响因素)

等离子体是物质的一种存在状态,通常物质以固态、液态、气态三种状态存在,但在一些特殊的情况下有第四种状态存在,如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质:处于高速运动状态的电子;处于激活状态的中性原子、分子、原子团(自由基);离子化的原子、分子;未反应的分子、原子等,但物质在总体上仍保持电中性状态。

给气态物质更多的能量,比如加热,将会形成等离子体。当到达等离子状态时,气态分子裂变成了许许多多的高度活跃的粒子。这些裂变不是永久的,一旦用于形成等离子体的能量消失,各类粒子重新结合,形成原来的气体分子。与湿法清洗不同,等离子清洗的机理是依靠处于“等离子态”的物质的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。从目前各类清洗方法来看,等离子体清洗也是所有清洗方法中最为彻底的剥离式的清洗方式。

等离子清洗机一般是利用激光、微波、电晕放电、热电离、弧光放电等多种方式将气体激发成等离子状态。

等离子清洗机工作原理分析:电浆与材料表面可产生的反应主要有两种,一种是靠自由基来做化学反应,另一种则是靠等离子作物理反应,以下将作更详细的说明。

(1)化学反应(Chemical reaction)在化学反应里常用的气体有氢气(H2)、氧气(O2)、甲烷(CF4)等,这些气体在电浆内反应成高活性的自由基,其方程式为:这些自由基会进一步与材料表面作反应。其反应机理主要是利用等离子体里的自由基来与材料表面做化学反应,在压力较高时,对自由基的产生较有利,所以若要以化学反应为主时,就必须控制较高的压力来近进行反应。

(2)物理反应(Physical reaction)主要是利用等离子体里的离子作纯物理的撞击,把材料表面的原子或附着材料表面的原子打掉,由于离子在压力较低时的平均自由基较轻长,有得能量的累积,因而在物理撞击时,离子的能量越高,越是有的作撞击,所以若要以物理反应为主时,就必须控制较的压力下来进行反应,这样清洗效果较好,为了进一步说明各种设备清洗的效果。等离子体清洗机的机理,主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看,等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面;被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子解析形成气相;反应残余物脱离表面。等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型,均可进行处理,对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理,并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。等离子体清洗还具有以下几个特点:容易采用数控技术,自动化程度高;具有高精度的控制装置,时间控制的精度很高;正确的等离子体清洗不会在表面产生损伤层,表面质量得到保证;由于是在真空中进行,不污染环境,保证清洗表面不被二次污染。

--沃特塞恩微波源为等离子处理系统提供稳定的功率和可靠的能量装置(http://www.wattsine.com.cn)

到此,以上就是微星自动化小编对于等离子体处理技术的问题就介绍到这了,希望介绍关于等离子体处理技术的4点解答对大家有用。

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