等离子处理工作原理 等离子处理工作原理图

低温等离子体一般用来处理VOC有机废气，是利用高压放电时候产生的高能电子和离子，分解废气分子。同时高能电子把氧分子分解成两个氧原子，并与氧分子再次结合成臭氧。臭氧是强氧化剂，可以氧化有机污染物。

大家好，今天微星自动化（http://wxdcn.com/）小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于等离子处理工作原理的问题，于是微星自动化小编就整理了3个相关介绍等离子处理工作原理的解答，让我们一起看看吧。

文章目录：

1. 请问,低温等离子体废气处理技术工作原理是什么?
2. 等离子废气处理的原理是什么?
3. 各位大虾,谁知道等离子表面处理是什么原理,请详细点

一、请问,低温等离子体废气处理技术工作原理是什么?

低温等离子体一般用来处理VOC有机废气，是利用高压放电时候产生的高能电子和离子，分解废气分子。同时高能电子把氧分子分解成两个氧原子，并与氧分子再次结合成臭氧。臭氧是强氧化剂，可以氧化有机污染物。水分子受轰击分解成羟基自由基，也是强氧化剂，同样可以氧化有机物。

1、在产生等离子体的过程中，高频放电所产生的瞬间高能量能够打开某些有害气体分子的化学能，如：氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC类，苯、甲苯、二甲苯的分子链结构，使有机或无机高分子恶臭化合物分子链分解为单质原子或无害分子；

2、等离子体中包含大量的高能电子、正负离子、激发态粒子和具有强氧化性的自由基，这些活性粒子和部分废气分子碰撞结合，在电场作用下，废气分子处于激发态。

当废气分子获得的能量大于其分子键能的结合能时，废气分子的分子键断裂，直接分解成单质原子或由单一原子构成得无害气体分子。

同时产生的大量OH、HO2、O等活性自由基和氧化性极强的O3，能与有害气体分子发生化学反应，最后生成无害产物；

3、物理作用表现在具有荷电集尘作用。等离子体中的大量电子与颗粒污染物发生非弹性碰撞并粘附其表面从而使其荷电，在电场作用下，颗粒污染物被集尘极收集；

4、生物作用表现在具有消毒杀菌之功效。机理为：等离子体中的正负粒子使微生物表面产生的电能剪切力大于其细胞膜表面张力，致使细胞膜遭到破坏而导致微生物死亡。

二、等离子废气处理的原理是什么?

1）化学途径

采用双极屏蔽技术，使用220V50hz民用电源，在常温常压的环境条件下即可使氧分子分离成生态原子氧、纯净离子氧、羟基自由基、单线态氧、带正、负电荷的离子和离子氧群团等。这些高氧化性、高能量、高浓度的离子群能够和气流中的产生臭气污染的有机分子或无机物发生氧化反应，生成无毒的小分子；致使空气中的细菌细胞膜以及病毒的蛋白质包膜结构发生改变，从而使其失活。

2）物理作用

在离子管产生的电场作用下，电极空间里的等离子体的电子获得能量后，以每秒300万次至3000万次的速度与异味气体分子发生非弹性碰撞，分子动能大部分转化为污染物分子的内能，引发电离、裂解或激发等一系列复杂物理化学反应，再经过多级净化使污染气体分子降解为二氧化碳和水等常见无毒小分子，从而达到除臭目的。

3）聚合沉降

经过电场的尘埃颗粒物会带上电荷，在电荷的相互作用下结合成较大的团块，最终被滤网去除或随重力沉降，进而保护人体免受可吸入颗粒物及其携带微生物的伤害。

4）保持健康愉悦心情

有研究表明自然界特别是森林、湿地空气环境中含有大量负离子，而负离子与人体保健密切相关，它不仅能够净化空气清除污染，还能促进肺泡和肺功能修复，并有效改善大脑皮层活性，消除疲劳、改善睡眠。

超能等离子原理图

1）一般高能等离子设备材质用料参差不齐，设计做工不规范，品质无法得到保证，因而出现离子能量不足、释放量不足和除臭效率低等问题；

2）低温等离子废气治理设备本质上采取的是静电除尘除油技术，通过产生正负电荷使颗粒物带电聚合，最终沉降收集达到净化目的，和餐厨行业使用的油烟净化器没有区别，一般用于清除大直径的颗粒物，难以对空气当中分子级别的有害物质进行有效去除；

3）光氢/光氧/光电/光脉冲等离子装置实际与UV紫外线光触媒装置无异，其释放出肉眼看不见的紫外线可能致盲或灼伤皮肤，且该装置反应过程中产生的大量臭氧属于严重的二次污染，过量吸入可能对人体造成严重伤害，在某些地区已被环保部门叫停使用。

超能等离子臭气废气治理装置在高效除臭杀灭病菌的基础上实现了人机共存，释放的各种负氧离子群团对人的身体健康和心情愉悦也有一定的促进作用。

三、各位大虾,谁知道等离子表面处理是什么原理,请详细点

等离子表面处理利用了等离子体在低温条件下能够产生非平衡电子、反应离子和自由基的特性。等离子体中的高能活性基团轰击表面，会造成溅射、热蒸发或光致降解。等离子体特有的清洗过程主要是基于等离子体溅射和刻蚀所带来的物理和化学变化。

物理溅射的过程中，等离子体中高能量离子脉冲式的表面轰击会导致表面原子发生位移，在某些情况下，还会造成溅射、热蒸发或光致降解。等离子体特有的清洗过程主要是基于等离子体溅射和刻蚀所带来的物理和化学变化。

物理溅射的过程中，等离子体中高能量离子脉冲式的表面轰击会导致表面原子发生位移，在某些情况下，还会造成次表层上原子的移位，因此物理溅射没有选择性。在化学刻蚀的过程中，等离子体中的活性基团和表面原子，分子发生反应，产生的挥发性物质可以通过泵抽走。在等离子刻蚀过程中，通过选择不同的工艺参数，可以对不同材料实现高选择性的化学反应刻蚀，然而这种方法对同一种材料的刻蚀是各向同性的。在离子增强刻蚀中，高能粒子撞击表面时，会在表面形成缺陷、位错或悬浮，这些缺陷提高了表面的化学反应刻蚀速率，使这种刻蚀过程同时具备可选择性和方向性。

在所有的这些清洗过程中，在碳氢化合物与衬底之间的键合被削弱，获得的能量使这些有机复合物从衬底上脱离。一旦脱离有机化合物分子基团就会被惰性气体带走。等离子体所产生的光辐照、中性粒子流和带电粒子轰击为结合键的断裂提供了能量。这些能量首先被碳氢化合物吸收后，在各种形式的二次过程中又被消耗掉。正是这些各种形式的二次过程实现了表面清洗的效果。在等离子体中存在大量的紫外线辐照，能量被聚合物吸收后，产生了化学性质非常活跃的自由基，这些自由基和容易与等离子体中的气体发生发生反应，产生挥发性气体。在等离子体中，快离子与中性粒子碰撞后产生的中性自由基不断地轰击样品表面，以动能、振动‘解离和激发态的模式在中性粒子之间进行电荷交换和能量传递。运动动能和振动动能以一种温和的方式加热表面，解离和激发态产生的自由基以平动或振动的方式传递热量。如果能量超过阈值，则可能导致溅射，并伴随着自由基团的产生。

处理明显的类似于机械的方法去除表面污染物溅射过程外，等离子体中的自由基是最重要的去除碳氢化合物的因素。这些自由基包括O、OH、H和C自由基。具体的清洗过程与实际存在的碳水化合物特性密切相关。下面是自由基清洗过程的概要方程式

RH→P*+H*

RO→P*+O*

ROH→P*+OH*

其中，RH、RO、ROH代表各种碳水化合物，它们与H、OH和O自由基团结合后形成低能的化学键，P*代表反应产物。等离子体中的部分能量传递给H键、OH键或者O键后，这些化学键将被打断，并形成自由基，一旦这些自由基形成后（H，O，OH），就能够和其他的元素结合形成气化的CO、二氧化碳，和水，这些气体就很容易被气流从表面带走。很显然，在碳氢化合物的分解过程中存在很多的中间步骤，最终，原先的碳氢化合物中所含的C、H、和O都被变成气体后，也就随即从样品表面消失。

东信高科等离子表面处理解决方案

到此，以上就是微星自动化小编对于等离子处理工作原理的问题就介绍到这了，希望介绍关于等离子处理工作原理的3点解答对大家有用。