等离子蚀刻机 等离子蚀刻机的工作原理

感应耦合等离子体刻蚀机（ICP-RIE）在启动后一直闪烁是因为以下原因：1、气体问题：ICP-RIE需要使用特定的工艺气体来创建等离子体。如果气体供应不足或气体质量有问题，导致等离子体始终无法稳定维持，从而导致闪烁现象。

大家好，今天微星自动化（http://wxdcn.com/）小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于等离子蚀刻机的问题，于是微星自动化小编就整理了8个相关介绍等离子蚀刻机的解答，让我们一起看看吧。

文章目录：

1. 等离子刻蚀机的介绍
2. 晶圆等离子刻蚀温度范围是多少
3. 等离子去胶机是刻蚀机吗
4. 等离子蚀刻机(干刻)与等离子清洗机是一件事吗
5. 中国进口日本半导体设备有哪些
6. 等离子刻蚀机的构造与工作原理
7. 等离子刻蚀机的等离子刻蚀机的应用
8. LamRainbow4620等离子刻蚀机原装配件哪里可以维修?

一、等离子刻蚀机的介绍

等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。某种程度来讲，等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反应室。气体被导入并与等离子体进行交换。等离子体在工件表面发生反应，反应的挥发性副产物被真空泵抽走。等离子体刻蚀工艺实际上便是一种反应性等离子工艺。近期的发展是在反应室的内部安装成搁架形式，这种设计的是富有弹性的，用户可以移去架子来配置合适的等离子体的蚀刻方法：反应性等离子体（RIE），顺流等离子体（downstream），直接等离子体（direction plasma）。

二、晶圆等离子刻蚀温度范围是多少

400摄氏度到500摄氏度。等离子蚀刻机的温度控制非常严格，温度在400摄氏度到500摄氏度之间，且要求温度波动小于0.5摄氏度，以确保产品在严苛的工艺条件下，能够维持稳定的生产。

三、等离子去胶机是刻蚀机吗

是。根据查询相关公开信息显示，等离子体去胶机，是在反应离子刻蚀机的基础上简化改进而来，为小型等离子去胶机。等离子体去胶机是一种用于物理学、材料科学领域的分析仪器，于2011年03月02日启用。

四、等离子蚀刻机(干刻)与等离子清洗机是一件事吗

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等离子刻蚀机主要采用射频等离子源（也有采用微波离子源）激发反应气体产生等气体离子对目标物进行物理轰击，以达到去除指定物质手段。因为反应力度要求较大，所以等离子刻蚀机基本是采用RF射频等离子发生方式。同理，如果控制等离子源功率和其他相关参数可以降低反应力度，从而也可以对一般电子元件进行清洗去除污染物。从这层作用来讲他们可以共用。

但是在半导体生产过程中，刻蚀和清洗两个工作步骤往往分开的，不共用同一套设备。为了避免物理轰击对元件成型电路带来不可预知的损伤，现在等离子清洗机主流逐渐采用微波等离子清洗机(可百度搜索)了。它的优势是表面电子能比RF少2个数量级，因此可以说对目标物能达到无损。

五、中国进口日本半导体设备有哪些

中国进口日本半导体设备有曝光机，离子注入机，等离子刻蚀机，薄膜沉积机。
1、曝光机：用于半导体制造中的光刻工艺，将光阻层图案投射到硅片上。
2、离子注入机：用于半导体制造中的掺杂工艺，将杂质原子注入到硅片上，改变硅片电学性质。
3、等离子刻蚀机：用于半导体制造中的刻蚀工艺，将光刻后的图案刻蚀到硅片上。
4、薄膜沉积机：用于半导体制造中的薄膜制备工艺，将金属或者氧化物等材料沉积到硅片表面。

六、等离子刻蚀机的构造与工作原理

等离子刻蚀机的组成一般包括等离子发生器（工业上常用RF激发法），真空室，和电极。

　　其工作原理是用等离子体中的（radical）去轰击（bombard）或溅射（sputter）被刻蚀材料的表面分子，形成易挥发物质，从而实现刻蚀的目的。也有部分等离子刻蚀机采用反应离子刻蚀技术（Reactive Ion Etching）。

七、等离子刻蚀机的等离子刻蚀机的应用

等离子体处理可应用于所有的基材，甚至复杂的几何构形都可以进行等离子体活化、等离子体清洗，等离子体镀膜也毫无问题。等离子体处理时的热负荷及机械负荷都很低，因此，低压等离子体也能处理敏感性材料。等离子刻蚀机的典型应用包括：

等离子体清除浮渣

光阻材料剥离

表面处理

各向异性和各向同性失效分析应用材料改性

包装清洗

钝化层蚀刻

聚亚酰胺蚀刻

增强粘接力

生物医学应用

聚合反应

混合物清洗

预结合清洗

八、LamRainbow4620等离子刻蚀机原装配件哪里可以维修?

刻蚀机，顾名思义，对应的是芯片制造中的“刻蚀”这一步。

在芯片制造中，“光刻”和“刻蚀”是两个紧密相连的步骤，也是非常关键的步骤。

刻蚀设备的发展和光刻技术，互连技术密切相关。High K / Low K材料，铜互连，Metal Gate，double Pattern等技术的发展都对刻蚀设备提出了新的需求·

等离子干法刻蚀技术是利用等离子体进行薄膜微细加工的技术。在典型的干法刻蚀工艺过程中，一种或多种气体原子或分子混合于反应腔室中，在外部能量作用下（如射频、微波等）形成等离子体，干法刻蚀技术由于具有良好的各向异性和工艺可控性已被广泛应用于微电子产品制造领域，凭借在等离子体控制、反应腔室设计、刻蚀工艺技术、软件技术的积累与创新.

Lam Rainbow 4620 等离子刻蚀机.制造商: Lam Research、晶圆尺寸: 4″/5″/6″/8″、传片系统: 全自动, 原装机械传片系统、等离子电源: 射频,13.56MHz、类型: 晶圆水平放置，单片工艺，等离子刻蚀，独立机台、刻蚀材料：金属引线（如铝、硅铝合金等）。Lam AutoEtch 490 等离子刻蚀机原装配件维修、Lam AutoEtch 590 等离子刻蚀机原装配件维修、Lam AutoEtch 690 等离子刻蚀机原装配件维修、Lam AutoEtch 790 等离子刻蚀机原装配件维修、Lam Rainbow 4420 等离子刻蚀机原装配件维修、Lam Rainbow 4520 等离子刻蚀机原装配件维修、Lam Rainbow 4620 等离子刻蚀机原装配件维修、Lam Rainbow 4720 等离子刻蚀机。

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到此，以上就是微星自动化小编对于等离子蚀刻机的问题就介绍到这了，希望介绍关于等离子蚀刻机的8点解答对大家有用。