微波等离子体设备 微波等离子体设备厂家排名

mpcvd即Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition的单词缩写，中文意思为微波等离子体化学气相沉积。

大家好，今天微星自动化（http://wxdcn.com/）小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于微波等离子体设备的问题，于是微星自动化小编就整理了6个相关介绍微波等离子体设备的解答，让我们一起看看吧。

文章目录：

1. MPCVD装置是什么?
2. 等离子体设备有哪些?
3. 等离子体设备有哪些?
4. 微波等离子体光谱仪是什么?
5. 微波等离子体炬是什么?
6. 什么是微波等离子体

一、MPCVD装置是什么?

微波等离子体化学气相沉积（Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition)，用微波等离子体设备进行化学气相沉积

-----优普莱等离子体专业从事等离子体研发

mpcvd即Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition的单词缩写，中文意思为微波等离子体化学气相沉积。mpcvd装置是用来批量生长单晶、多晶金刚石的一种设备。

微波等离子化学气相沉积技术（MPCVD)

二、等离子体设备有哪些?

按气压分

等离子体炬（常压，大气压）

真空等离子体设备

按放电频率分

直流等离子体设备

高频等离子体设备(xx kHz)

射频等离子体设备(13.56MHz，xx MHz)

电容耦合放电（CCP)

电感耦合放电（ICP)

微波等离子体设备（915MHz,2.45GHz,5.8GHz) (微波：300MHz-300GHz)

三、等离子体设备有哪些?

按气压分

等离子体炬（常压，大气压）

真空等离子体设备

按放电频率分

直流等离子体设备

高频等离子体设备(xx kHz)

射频等离子体设备(13.56MHz，xx MHz)

电容耦合放电（CCP)

电感耦合放电（ICP)

微波等离子体设备（915MHz,2.45GHz,5.8GHz) (微波：300MHz-300GHz)

-------优普莱等离子体专业从事等离子体研发。

四、微波等离子体光谱仪是什么?

电感耦合等离子体原子发射光谱仪

高频振荡器发生的高频电流，经过耦合系统连接在位于等离子体发生管上端，铜制内部用水冷却的管状线圈上。石英制成的等离子体发生管内有三个同轴氢气流经通道。冷却气(Ar)通过外部及中间的通道，环绕等离子体起稳定等离子体炬及冷却石英管壁，防止管壁受热熔化的作用。原理介绍编辑高频振荡器发生的高频电流，经过耦合系统连接在位于等离子体发生管上端，铜制内部用水冷却的管状线圈上。石英制成的等离子体发生管内有三个同轴氩气流经通道。冷却气(Ar)通过外部及中间的通道，环绕等离子体起稳定等离子体炬及冷却石英管壁，防止管壁受热熔化的作用。工作气体(Ar)则由中部的石英管道引入，开始工作时启动高压放电装置让工作气体发生电离，被电离的气体经过环绕石英管顶部的高频感应圈时，线圈产生的巨大热能和交变磁场，使电离气体的电子、离子和处于基态的氖原子发生反复猛烈的碰撞，各种粒子的高速运动，导致气体完全电离形成一个类似线圈状的等离子体炬区面，此处温度高达6000一10000摄氏度。样品经处理制成溶液后，由超雾化装置变成全溶胶由底部导入管内，经轴心的石英管从喷咀喷入等离子体炬内。样品气溶胶进入等离子体焰时，绝大部分立即分解成激发态的原子、离子状态。当这些激发态的粒子回收到稳定的基态时要放出一定的能量(表现为一定波长的光谱)，测定每种元素特有的谱线和强度，和标准溶液相比，就可以知道样品中所含元素的种类和含量。

五、微波等离子体炬是什么?

微波等离子体炬（microwave plasma torch）是我国金钦汉教授课题组的发明，一种新型原子光谱用光源。

由于它兼有电感耦合等离子体(ICP)和微波等离子体(MWP)的一些特点，能够在温和的条件下[较小的功率(<100W)和较小的等离子体气体流速(<1.0L/min)]容易地获得包括高电离电位的He在内的多种气体的常压等离子体，同时具有很好的样品承受能力，可测定包括卤素等ICP测不好的非金属元素在内的周期表中几乎所有元素，因而显示出了较高的性能价格比，得到了国内外原子光谱学界同行和商家的重视与好评。

----优普莱专业从事等离子体技术研发。

空气微波等离子炬，自点火

氮气微波等离子炬，自点火

氮气微波等离子炬，自点火

六、什么是微波等离子体

由部分电子被剥夺后的原子及被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质，尺度大于德拜长度的宏观电中性电离气体，其运动主要受支配，并表现出显著的集体行为。

它广泛存在于宇宙中，常被视为是除去固、液、气外，物质存在的。等离子体是一种很好的导电体，利用经过巧妙设计的磁场可以捕捉、移动和加速等离子体。

扩展资料

等离子体的温度高，能提供高的工作介质，生产常规方法不能得到的材料，加之有气氛可控、设备相对简单、能显著缩短等优点，所以等离子体技术有很大发展。1879年W.克鲁克斯指出放电管中的电离气体是不同于气体、液体、固体的物质第四态，1928年I.朗缪尔给它起名为等离子体。

最常见的等离子体有电弧、霓虹灯和日光灯的发光气体以及闪电、极光等。随着科学技术的发展，人们已能用多种方法人工产生等离子体，从而形成一种应用广泛的等离子体技术。一般来说，温度在108K左右的等离子体称高温等离子体，目前只用于受控热核聚变实验中；

具有工业应用价值的等离子体是温度在 2×103～5×104K之间、能持续几分钟乃至几十小时的低温等离子体，主要用气体放电法和燃烧法获得。气体放电又分为电弧放电、高频感应放电和放电。

前两者产生的等离子体称热等离子体，主要用作高温热源；后者产生的等离子体称冷等离子体，具有工业上可利用的特殊的。但在有机废气治理方面由于高压放电，需要防止容易打火而产生爆炸事故。

参考资料来源：

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到此，以上就是微星自动化小编对于微波等离子体设备的问题就介绍到这了，希望介绍关于微波等离子体设备的6点解答对大家有用。