等离子微波清洗机 等离子微波清洗机原理

1、FPC和PCB手机通过等离子体清洗，可以去除残胶。2、照相机和指纹识别工业：软硬结合金PAD通过等离子体清洗表面去氧化，使表面得到高效清洁。3、等离子体清洗可以用于半导体IC封装领域处理，提升封装质量。

大家好，今天微星自动化（http://wxdcn.com/）小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于等离子微波清洗机的问题，于是微星自动化小编就整理了2个相关介绍等离子微波清洗机的解答，让我们一起看看吧。

文章目录：

1. 等离子清洗机的清洗原理
2. 等离子清洗机清洗原理

一、等离子清洗机的清洗原理

等离子清洗的原理简略来讲就是电极放电，将工作气体进行电离生成等离子体，等离子体跟需要清洗的产品表面结合，从而达到提高产品表面活性，增加表面能及去除有机污染物等功能

等离子清洗机的清洗原理是在真空腔体里，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面，以达到清洗目的。

在这种情况下，等离子处理可以产生以下效果：

1、灰化表面有机层

污染物在真空和瞬时高温下的部分蒸发，污染物被高能离子粉碎并被真空带走。

紫外辐射破坏污染物，由于等离子体处理每秒钟只能穿透几纳米，所以污染层不应该太厚。指纹也适用。

2、氧化物去除

这种处理包括使用氢或氢和氩的混合物。有时也采用两步流程。第一步是用氧气氧化表面5分钟，第二步是用氢和氩的混合物除去氧化层。它也可以同时用几种气体处理。

3、焊接

通常，应在焊接前用化学药剂处理。焊接后，这些化学物质必须用等离子体法去除，否则会引起腐蚀和其他问题。

扩展资料

等离子清洗/刻蚀机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场，用实现一定的，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长。

受电场作用，它们发生碰撞而形成等离子体，这些离子的活性很高，其能量足以破坏几乎所有的，在任何暴露的表面引起，不同气体的等离子体具有不同的化学性能，如氧气的等离子体具有很高的氧化性，能氧化反应生成气体，从而达到清洗的效果；腐蚀性气体的等离子体具有很好的各向异性，这样就能满足刻蚀的需要。

利用等离子处理时会发出辉光，故称之为辉光放电处理。

等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如、聚酯、、聚氯乙烷、环氧、甚至等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。

参考资料来源：

二、等离子清洗机清洗原理

等离子清洗机清洗原理是，通过利用等离子体的“活性”组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、涂覆等目的。在真空腔体里，通过射频电源在一定的压力情况下起会产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面，以达到清洗目的。

等离子体和固体、液体或气体一样，是物质的一种状态，也叫做物质的第四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的"活性"组分包括：离子、电子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子体表面处理仪就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。

等离子清洗机也叫等离子清洁机，或者等离子表面处理仪，是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子清洁机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、涂覆等目的。

到此，以上就是微星自动化小编对于等离子微波清洗机的问题就介绍到这了，希望介绍关于等离子微波清洗机的2点解答对大家有用。