半导体等离子清洗 半导体等离子清洗机

等离子清洗机，又名plasma清洗机，等离子表面处理机设备。光从名称上来看，清洗并不是清洗，而是处理和反应。从机理上看：等离子清洗机在清洗时通入工作气体在电磁场的作用下所激发的等离子与物体表面产生物理反应和化学反应。

大家好，今天微星自动化（http://wxdcn.com/）小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于半导体等离子清洗的问题，于是微星自动化小编就整理了3个相关介绍半导体等离子清洗的解答，让我们一起看看吧。

文章目录：

1. 什么是等离子清洗机?求详细介绍
2. 等离子清洗机可以清洗玻璃吗,等离子清洗玻璃的原理是什么?
3. 等离子清洗机的清洗原理

一、什么是等离子清洗机?求详细介绍

等离子清洗机是什么？

等离子清洗机是清洗行业里面的高级设备，因为有“清洗”两字，对于第一次和等离子清洗机接触的人，很容易就联想到洗米洗菜洗衣服。为了让这些小白明白等离子清洗是什么，写一篇文章给这些小白普及一下等离子清洗机的入门常识。

很多人问的比较多的问题是，等离子清洗机可以清洗什么，是不是什么都能够洗掉，甚至说清洗产品的时候要不要加洗衣粉，清洗剂什么的。比如懂一点的会问等离子清洗机和超声波清洗机有什么区别，对于这些刚接触等离子清洗机的人们，就必要给这些讲解一下

等离子清洗机，又名plasma清洗机，等离子表面处理机设备。光从名称上来看，清洗并不是清洗，而是处理和反应。从机理上看：等离子清洗机在清洗时通入工作气体在电磁场的作用下所激发的等离子与物体表面产生物理反应和化学反应。其中，物理反应机制是活性粒子轰击待清洗表面，使污染物脱离表面最终被真空泵吸走；化学反应机制是各种活性的粒子和污染物反应生成易挥发性的物质，再由真空泵吸走挥发性的物质，从而达到清洗目的。

等离子清洗机不用加什么洗衣粉清洗剂之类的玩意，等离子清洗机属于干洗设备，需要加气体。

我们的工作气体，经常用到氢气（H2）、氮气（N2）、氧气（O2）、氩气（Ar）、甲烷（CF4）等。在等离子清洗机过程中很容易对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等进行处理。当然这样以来让我们很容易联想到：去除零件上的油污，去除手表上的抛光膏，去除线路板上的胶渣，去除DVD上的水纹等等。不过去除油污除锈这些工作通常用的是超声波清洗机，超声波清洗机用的是水洗设备，水里面会加清洗剂，去除不同的油污所需要添加的清洗剂不相同。这个根据实际情况去配比。如果是去除线路板上面的胶渣，就需要用到等离子蚀刻机，这个设备有一定的技术含量，一般的小厂还做不出来。

金徕等离子清洗机的作用实际上不是清洗油污，而是对物体的表面进行改性，提升物体表面的粘接力，好多材料如玻璃、硅胶、塑料等高分子材料，如果直接喷涂电镀、粘接这些操作效果非常差，如果使用等离子对物体的表面清洗一遍，对这些物体的表面做一个改性处理，其粘接力大不相同。

“洗表面“才是等离子清洗机技术的核心，这一核心也是现在众多企业之所以选择 等离子清洗机的重点。”洗表面“跟电浆机和等离子表面处理设备这两个名字密切相联。简单的来说清洗表面就是在被处理材料表面打出无数个肉眼看不到的小孔，同时在表面形成一个新的氧化层薄膜。这样以来大大增加了被处理材料的表面积，间接性的增加了材料表面的粘附性、相容性、浸润性、扩散性等等。而这些性能又恰当的应用在手机，电视，微电子，半导体，医疗，航空，汽车等各行各业中，为众多企业解决多年未曾解决的难题。

二、等离子清洗机可以清洗玻璃吗,等离子清洗玻璃的原理是什么?

手机制造过程中，玻璃盖板、手机盖板、显示屏等光学材料表面常常会有油污、蜡、指纹、油脂等残留的有机污染物。这些残留的污染物的存在不利于进行镀膜、喷涂、印刷、粘接、焊接等工艺处理，因此在进行下一步工序前，都需要将这些污染物清洗干净来确保后续的工艺质量。

玻璃盖板采用超声波清洗通常会残留一些肉眼看不见的有机物和微粒，这无疑会对下一步工艺的进行埋下隐患。等离子清洗机能让玻璃盖板清洗得更加彻底，对玻璃盖板表面的主要清洗作用是活化，能使有机污染物化学反应成碳氢化合物，生成二氧化碳和水从玻璃盖板表面除去，促进下一步蚀刻、涂覆、粘接等工艺，大大提高了产品良率。

玻璃盖板镀膜也称玻璃盖板喷涂、镀膜应用于5G行业，涵盖手机盖板镀膜、玻璃盖板镀膜、显示屏镀膜、保护片镀膜、光学材料镀膜等。玻璃盖板镀膜可以使玻璃盖板、背板更漂亮，还能起到抗指纹、防炫光、抗紫外线、耐酸碱、抗氧化的作用。

等离子预处理是采用等离子表面处理机（一般为低温常压旋转喷头等离子表面处理机）在AF、AS、AG、AR镀膜（喷涂）工艺前，对基材表面进行精细化清洗、蚀刻和活化，可以得到非常薄的高张力涂层表面，有利于喷涂药水的附着牢固和厚薄均匀。

等离子清洗技术在处理中具有如下优势：

（1）环保节能。相比于传统湿法清洗技术，等离子清洗技术使干式工艺，不消耗水和化学试剂，省能源、无污染

（2）具有在线生产能力，能实现全自动化处理，处理时间短，效率高，成本低

（3）不分处理基材类型，均可进行处理，能处理形状较复杂的材料，材料表面处理的均匀性好。

（4）对材料表面的作用仅涉及到纳米级处理，可在保持处理材料原本特效的同时，赋予其另一种新的功能

（5）处理温度低，不对材料表面造成损害，特别适合处理高分子材料

三、等离子清洗机的清洗原理

等离子清洗机的清洗原理是在真空腔体里，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面，以达到清洗目的。

在这种情况下，等离子处理可以产生以下效果：

1、灰化表面有机层

污染物在真空和瞬时高温下的部分蒸发，污染物被高能离子粉碎并被真空带走。

紫外辐射破坏污染物，由于等离子体处理每秒钟只能穿透几纳米，所以污染层不应该太厚。指纹也适用。

2、氧化物去除

这种处理包括使用氢或氢和氩的混合物。有时也采用两步流程。第一步是用氧气氧化表面5分钟，第二步是用氢和氩的混合物除去氧化层。它也可以同时用几种气体处理。

3、焊接

通常，印刷电路板应在焊接前用化学药剂处理。焊接后，这些化学物质必须用等离子体法去除，否则会引起腐蚀和其他问题。

扩展资料

等离子清洗/刻蚀机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长。

受电场作用，它们发生碰撞而形成等离子体，这些离子的活性很高，其能量足以破坏几乎所有的化学键，在任何暴露的表面引起化学反应，不同气体的等离子体具有不同的化学性能，如氧气的等离子体具有很高的氧化性，能氧化光刻胶反应生成气体，从而达到清洗的效果；腐蚀性气体的等离子体具有很好的各向异性，这样就能满足刻蚀的需要。

利用等离子处理时会发出辉光，故称之为辉光放电处理。

等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚酯、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。

参考资料来源：百度百科-等离子清洗机

到此，以上就是微星自动化小编对于半导体等离子清洗的问题就介绍到这了，希望介绍关于半导体等离子清洗的3点解答对大家有用。