pp表面等离子处理(pp材料表面等离子处理)

一些化学材料如PP或者其他化学材料，本身是疏水或者亲水。一样通过上述工艺气体通入，离子化，发生反应，将表面进行改性，使它变得亲水或疏水，便于下一步喷涂。3、等离子还有一种喷涂技术和热喷涂图技术一起。

大家好，今天微星自动化小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于pp表面等离子处理的问题，于是微星自动化小编就整理了3个相关介绍pp表面等离子处理的解答，让我们一起看看吧。

文章目录：

1. 等离子体技术应用在了哪些表面处理技术中?其具体作用是?
2. 什么是等离子表面处理?
3. 各位大虾,谁知道等离子表面处理是什么原理,请详细点

一、等离子体技术应用在了哪些表面处理技术中?其具体作用是?

等离子体清洗可以不分处理对象，它可以处理各种各样的材质，无论是金属、半导体、氧化物，还是高分子材料（如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等高聚物）都可以使用等离子体来处理。因此特别适合于不耐热以及不耐溶剂的材质。而且还可以有选择地对材料的整体、局部或复杂结构进行部分清洗；在被处理材料表面打出无数个肉眼看不到的小孔，同时在表面形成兄唯一个新的氧化层薄膜。这样以来大大增加了被处理材料的表面积，间接性的增加了材料表面的粘附性、相容性、浸润性、扩散性等等。而这些性能又恰当的应用在手机，电视，微电子，半导体，医疗，航空，汽车等各行各业中，没尘戚为众多企业解决多年未曾解决的难题。还可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的润湿性能、改善膜的黏枯陵着力等，这在许多应用中都非常重要

我（Alpha Plasma 雇员）从我从事的半导体和部分工业产品领域给予阐述：1、在需要进行粘合前，进行清洗改变表面张力。通过微波等离子源将根据工艺选择通入的反应气体（O2/H2/N2/Ar等）离子化，然后离子等物质和表面有机污染物发生化学反应，形成废气被真空泵抽出。被清洗材料表面达到清洗干净目的。经过测试，清洗前和清洗后的表面张力发生非常大的变化，有助于下一步打线或者粘结；2、表面喷涂前对材料表面改性，改善喷涂效果。一些化学材料如PP或者其他化学材料，本身是疏水或者亲水。一样通过上述工艺气体通入，离子化，发生反应，将表面进行改性，使它变得亲水或疏水，便于下一步喷涂。3、等离子还有侍高一种喷涂技术和热喷涂图技术一起，主要为大件金属表面直接等进行喷涂，效率和效老友尺果非常好。不是我擅长告旅领域可以自己查询相关信息。

二、什么是等离子表面处理?

等离子表面处理原理就是等离子温度接近室温，这些优点为热敏性高分子聚合物表面改性提供了适宜的条件。

通过低温等离子体表面处理，材料表面发生多种的物理、化学变化，或产生刻蚀而粗糙，或形成致密的交联层，或引入含氧极性基团，使亲水性、粘结性、可染色性、生物相容性及电性能分别得到改善。

工艺

等离子处理是最有效的对表面进行清洗、活化和涂层的处陪袜启理工艺之一，可以用于处理各种材料，包括塑料、金属或者玻璃等。

等离子处理机对表面清洗，可以清除表面上的脱模剂和添加剂等，而其活化过程，则可以确保后续的粘接工艺和涂装工艺等的品质，对于涂芦如层处理而言，则可以进一步改善复合物的表面特性。使用这种等离子技术，可以根据特定的工艺需求，高效地对材料进行表面预处理。

以上内容好侍参考：

三、各位大虾,谁知道等离子表面处理是什么原理,请详细点

等离子表面处理利用了等离子体在低温条件下能够产生非平衡电子、反应离子和自由基的特性。等离子体中的高能活性基团轰击表面，会造成溅射、热蒸发或光致降解。等离子体特有的清洗过程主要是基于等离子体溅射和刻蚀所带来的物理和化学变化。

物理溅射的过程中，等离子体中高能量离子脉冲式的表面轰击会导致表面原子发生位移，在某些情况下，还会造成溅射、热蒸发或光致降解。等离子体特有的清洗过程主要是基于等离子体溅射和刻蚀所带来的物理和化学变化。

物理溅射的过程中，等离子体中高能量离子脉冲式的表面轰击会导致表面原子发生位移，在某些情况下，还会造成次表层上原子的移位，因此物理溅射没有选择性。在化学刻蚀的过程中，等离子体中的活性基团和表面原子，分子发生反应，产生的挥发性物质可以通过泵抽走。在等离子刻蚀过程中，通过选择不同的工艺参数，可以对不同材料实现高选择性的化学反应刻蚀，然而这种方法对同一种材料的刻蚀是各向同性的。在离子增强刻蚀中，高能粒子撞击表面时，会在表面形成缺陷、位错或悬浮，这些缺陷提高了表面的化学反应刻蚀速率，使这种刻蚀过程同时具备可选择性和方向性。

在所有的这些清洗过程中，在碳氢化合物与衬底之间的键合被削弱，获得的能量使这些有机复合物从衬底上脱离。一旦脱离有机化合物分子基团就会被惰性气体带走。等离子体所产生的光辐照、中性粒子流和带电粒子轰击为结合键的断裂提供了能量。这些能量首先被碳氢化合物吸收后，在各种形式的二次过程中又被消耗掉。正是这些各种形式的二次过程实现了表面清洗的效果。在等离子体中存在大量的紫外线辐照，能量被聚合物吸收后，产生了化学性质非常活跃的自由基，这些自由基和容易与等离子体中的气体发生发生反应，产生挥发性气体。在等离子体中，快离子与中性粒子碰撞后产生的中性自由基不断地轰击样品表面，以动能、振动‘解离和激发态的模式在中性粒子之间进行电荷交换和能量传递。运动动能和振动动能以一种温和的方式加热表面，解离和激发态产生的自由基以平动或振动的方式传递热量。如果能量超过阈值，则可能导致溅射，并伴随着自由基团的产生。

处理明显的类似于机械的方法去除表面污染物溅射过程外，等离子体中的自由基是最重要的去除碳氢化合物的因素。这些自由基包括O、OH、H和C自由基。具体的清洗过程与实际存在的碳水化合物特性密切相关。下面是自由基清洗过程的概要方程式

RH→P*+H*

RO→P*+O*

ROH→P*+OH*

其中，RH、RO、ROH代表各种碳水化合物，它们与H、OH和O自由基团结合后形成低能的化学键，P*代表反应产物。等离子体中的部分能量传递给H键、OH键或者O键后，这些化学键将被打断，并形成自由基，一旦这些自由基形成后（H，O，OH），就能够和其他的元素结合形成气化的CO、二氧化碳，和水，这些气体就很容易被气流从表面带走。很显然，在碳氢化合物的分解过程中存在很多的中间步骤，最终，原先的碳氢化合物中所含的C、H、和O都被变成气体后，也就随即从样品表面消失。

东信高科等离子表面处理解决方案

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