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表面等离子(表面等离子体共振原理)

微星自动化 2023-10-06 19:56 73

等离子表面处理原理就是等离子温度接近室温,这些优点为热敏性高分子聚合物表面改性提供了适宜的条件。通过低温等离子体表面处理,材料表面发生多种的物理、化学变化,或产生刻蚀而粗糙,或形成致密的交联层,或引入含氧极性基团。

大家好,今天微星自动化小编关注到一个比较有意思的话题,就是关于表面等离子的问题,于是微星自动化小编就整理了4个相关介绍表面等离子的解答,让我们一起看看吧。

文章目录:

  1. 什么是等离子表面处理?
  2. 表面等离子体和表面等离激元的区别
  3. 表面等离子体和表面等离激元的区别
  4. 各位大虾,谁知道等离子表面处理是什么原理,请详细点

一、什么是等离子表面处理?

等离子表面处理原理就是等离子温度接近室温,这些优点为热敏性高分子聚合物表面改性提供了适宜的条件。

通过低温等离子体表面处理,材料表面发生多种的物理、化学变化,或产生刻蚀而粗糙,或形成致密的交联层,或引入含氧极性基团,使亲水性、粘结性、可染色性、生物相容性及电性能分别得到改善。

工艺

等离子处理是最有效的对表面进行清洗、活化和涂层的处陪袜启理工艺之一,可以用于处理各种材料,包括塑料、金属或者玻璃等。

等离子处理机对表面清洗,可以清除表面上的脱模剂和添加剂等,而其活化过程,则可以确保后续的粘接工艺和涂装工艺等的品质,对于涂芦如层处理而言,则可以进一步改善复合物的表面特性。使用这种等离子技术,可以根据特定的工艺需求,高效地对材料进行表面预处理。

以上内容好侍参考:

二、表面等离子体和表面等离激元的区别

可以从以下方法进行区别

1、激发方式不同

表面等离子体:在一般情况(对于连续的金属介质界面)下,表面等离子体波的量大于光波的,为了激励表面等亏肆离子体波,需要引入一些特殊的结构达到波矢匹配,如:棱镜耦合、波导结构、光栅耦合。

表面等离激元:是在金属表面区域的一种和光子相互作用的形成的电磁振荡。表面电荷振荡与光波之间的相互作用使得表面等离激元具有很多独特的有意义的性质。特别是在激光器领域。

2、原理不同

表面等离子体:在金属表面存在的自由振动的电子与光子相互作用产生的沿着金属表面传播的电子疏密波。

表面等离激元:光波入射到金属与分界面时,金属表面的自由电子发生集体振荡,与金属表面自由电子耦合而形成的一种沿着金属表面传播的近场电磁波,这种现象就被称为表面等离激元现象。

扩展资料:

表面等离子体波的场分布具有以下特性:

1.其场分布在沿着界面方向是高度局域的,是一个袜茄消逝波,且在金属场销好轿中分布比在介质中分布更集中,一般分布深度与波长量级相同。

2.在平行于表面的方向,场是可以传播的,但是由于金属的损耗存在,所以在传播的过程中会有衰减存在,传播距离有限。

3.表面等离子体波的色散曲线处在光线的右侧,在相同频率的情况下,其波矢量比光波矢量要大。

参考资料来源: 

                         

三、表面等离子体和表面等离激元的区别

可袜茄以从以下方法进行区别

1、激发方式不同

表面等离子体:在一般情况(对于销好轿连续的金属介质界面)下,表面等离子体波的量大于光波的,为了激励表面等离子体波,需要引入一些特殊的结构达到波矢匹配,如:棱镜耦合、波导结构、光栅耦合。

表面等离激元:是在金属表面区域的一种和光子相互作用的形成的电磁振荡。表面电荷振荡与光波之间的相互作用使得表面等离激元具有很多独特的有意义的性质。特别是在激光器领域。

2、原理不同

表面等离子体:在金属表面存在的自由振动的电子与光子相互作用产生的沿着金属表面传播的电子疏密波。

表面等离激元:光波入射到金属与分界面时,金属表面的自由电子发生集体振荡,与金属表面自由电子耦合而形成的一种沿着金属表面传播的近场电磁波,这种现象就被称为表面等离激元现象。

扩展资料:

表面等离子体波的场分布具有以下特性:

1.其场分布在沿着界面方向是高度局域的,是一个亏肆消逝波,且在金属场中分布比在介质中分布更集中,一般分布深度与波长量级相同。

2.在平行于表面的方向,场是可以传播的,但是由于金属的损耗存在,所以在传播的过程中会有衰减存在,传播距离有限。

3.表面等离子体波的色散曲线处在光线的右侧,在相同频率的情况下,其波矢量比光波矢量要大。

参考资料来源: 

表面等离子(表面等离子体共振原理)

                         

四、各位大虾,谁知道等离子表面处理是什么原理,请详细点

等离子表面处理利用了等离子体在低温条件下能够产生非平衡电子、反应离子和自由基的特性。等离子体中的高能活性基团轰击表面,会造成溅射、热蒸发或光致降解。等离子体特有的清洗过程主要是基于等离子体溅射和刻蚀所带来的物理和化学变化。

物理溅射的过程中,等离子体中高能量离子脉冲式的表面轰击会导致表面原子发生位移,在某些情况下,还会造成溅射、热蒸发或光致降解。等离子体特有的清洗过程主要是基于等离子体溅射和刻蚀所带来的物理和化学变化。

物理溅射的过程中,等离子体中高能量离子脉冲式的表面轰击会导致表面原子发生位移,在某些情况下,还会造成次表层上原子的移位,因此物理溅射没有选择性。在化学刻胡尘蚀的过程中,等离子体中的活性基团和表面原子,分子发生反应,产生的挥发性物质可以通过泵抽走。在等离子刻蚀过程中,通过选择不同的工艺参数,可以对不同材料实现高选择性的化学反应刻蚀,然而这种方法对同一种材料的刻蚀是各向同性的。在离子增强刻蚀中,高能粒子撞击表面时,会在表面形成缺陷、位错或悬浮,这些缺陷提高了表面的化学反应刻蚀速率,使这种刻蚀过程同时具备可选择性和方向性。

在所有的这些清洗过程中,在碳氢化合物与衬底之间的键合被削弱,获得的能量使这些有机复合物从衬底上脱离。一旦脱离有机化合物分子基团就会被惰性气体带走。等离子体所产生的光辐照、中性粒子流和带电粒子轰击为结合键的断裂提供了能量。这些能量首先被碳氢化合物吸收后,在各种形式的二次过程中又被消耗掉。正是这些各种形式的二次过程实现了表面清洗的效果。在等离子体中存在大量的紫外线辐照,能量被聚合凳孙物吸收后,产生了化学性质非常活跃的自由基,这些自由基和容易与等离子体中的气体发生发生反应,产生挥发性气体。在等离子体中,快离子与中性粒子碰撞后产生的中性自由基不断地轰击样品表面,以动能、振动‘解离和激发态的模式在中性粒子之间进行电荷交换和能量传递。运动动能和振动动能以一种温和的方式加热表面,解离和激发态产生的自由基以平动或振动的方式传递热量。如果能量超过阈值,则可能导致溅射,并伴随着自由基团的产生。

处理明显的类似于机械的方法去除表面污染物溅射过程外,等离子体中的自由基是最重要的去除碳氢化合物的因素。这些自由基包括O、OH、H和C自由基。具体的清洗过程与实际存在的碳水化合物特性密切相关。下面是自由基清洗过程的概要方程式

RH→P*+H*

RO→P*+O*

ROH→P*+OH*

其中,RH、RO、ROH代表各种碳水化合物,它们与H、OH和O自由基团结合后形成低能的化学键,P*代表反应产物。等离子体中的部分能量传递给H键、OH键或者O键后,这些化学键将被打断,并形成自由基,一旦这些自由基形成后(H,O,OH),就能够和其他的元素结合形成气化的CO、二氧化碳,和水,这些气体就很容易被气流从表面带走。很显然,在碳氢化合物的分解过程中存在很多的中间步骤,最终,原先的碳氢化合物中枣做链所含的C、H、和O都被变成气体后,也就随即从样品表面消失。

东信高科等离子表面处理解决方案

到此,以上就是微星自动化小编对于表面等离子的问题就介绍到这了,希望介绍关于表面等离子的4点解答对大家有用。

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