蚀刻等离子机(蚀刻等离子机怎么用)

大家好，今天微星自动化小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于蚀刻等离子机的问题，于是微星自动化小编就整理了2个相关介绍蚀刻等离子机的解答，让我们一起看看吧。

1. 等离子的原理
2. lam半导体是什么公司

等离子的原理

等离子体是气体分子在真空、放电等特殊场合下产生的独特现象和物质。典型的等离子的组成是，电子、离子、自由基和质子。就好象把固体转变成气体需要能量一样，产生离子体也需要能量。一定量的离子体是由带电粒子和中性粒子（包括原子、离子和自由粒子）混合组成。离子体能够导电，和电磁力起反应。 等离子清洗/刻蚀机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长，受电场作用，它们发生碰撞而形成等离子体，这时会发出辉光，故称为辉光放电处理。辉光放电时的气压大小对材料处理效果有很大影响，另外与放电功率，气体成分及流动速度、材料类型等因素有关。 等离子体有一些显著的特征：

1） 气体产生辉光现象，常称为“辉光放电”。由于是真空紫外光，其对蚀刻率有十分积极的影响。

2）气体中包含中性粒子、离子和电子。由于中性粒子和离子温度介于102—103K，电子能量对应的温度高达105K，它们被称为“非平衡等离子体”或“冷等离子体”。但是它们却表现出电中性（准中性）。

3） 气体所产生的自由基和离子活性很高，其能量足以破坏几乎所有的化学键，在任何暴露的表面引起化学反应。等离子体中粒子的能量一般约为几个至几十电子伏特，大于聚合物材料的结合键能(几个至十几电子伏特)，完全可以破裂有机大分子的化学键而形成新键；但远低于高能放射性射线，只涉及材料表面，不影响基体的性能 等离子体可以通过直流或高频交流电场产生。当采用交流时，只能选用电信规定的科研及工业用频段（中频（MF）40KHz、高频（HF）13.56MHz、微波频率（MW）2.45GHz），否则会干扰无线电通信。 -------------优普莱等离子体技术专业从事等离子研发

通常情况下人们认为物质只有三种状态(固态、液态、气态)，其实不然，在一定条件下，物质还有第四种状态——等离子体态。等离子体状态不同于其它物质状态，它突出的一点是由带电粒子组成的电离状态。 

根据物质的构成理论，物质的原子、分子或分子团相互以不同的力或键力相结合，构成不同的聚集态。固体是以粒子间结合力强的键构成晶格的，而当其粒子的平均动能大于粒子在晶格中的结合能时，则晶格解体，固体转变为液体。液体的粒子间由结合力较弱的键联系，如果外界进一步供给能量，使这较弱的键破坏，则液体转变为粒子间没有作用键的气体.如果再对气体供给足够的能量，气体就电离成电子和离子，而成为等离子体。

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lam半导体是什么公司

lam半导体是向世界半导体产业提供晶圆制造设备和服务的主要供应商之一。业务发展是以蚀刻和成绩为主，以等离子蚀刻为公司特色。

David Lam先前曾在德州仪器和惠普服务研究等离子蚀刻技术。

到此，以上就是微星自动化小编对于蚀刻等离子机的问题就介绍到这了，希望介绍关于蚀刻等离子机的2点解答对大家有用。