表面等离子体清洗机_等离子体表面处理机

大家好，今天微星自动化小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于表面等离子体清洗机的问题，于是微星自动化小编就整理了3个相关介绍表面等离子体清洗机的解答，让我们一起看看吧。

1. 低压清洗机好不好
2. 等离子清洗机几种频率区别与应用
3. 离子清洗机的工作原理是什么

低压清洗机好不好

低压清洗机好。低压真空等离子清洗机，简称真空等离子清洗机或低气压等离子清洗机，由于产生等离子体的环境是在一个密闭的反应腔体里面，所以需要抽取真空并维持一定的真空压力值。

等离子清洗机几种频率区别与应用

常用的等离子体激发频率有三种：激发频率为40kHz的等离子体为超声等离子体，13.56MHz的等离子体为射频等离子体，2.45GHz的等离子体为微波等离子体。

不同等离子体产生的自偏压不一样，超声等离子体的自偏压为1000V左右，射频等离子体的自偏压为250V左右，微波等离子体的自偏压很低，只有几十伏。

而且三种等离子体的机制不同，超声等离子体发生的反应为物理反应，射频等离子体发生的反应既有物理反应又有化学反应，微波等离子体发生的反应为化学反应。

超声等离子应用于表面除胶、毛刺打磨等处理方面；半导体生产应用中大多采用射频等离子体清洗和微波等离子体清洗。

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离子清洗机的工作原理是什么

等离子清洗机工作原理分析：电浆与材料表面可产生的反应主要有两种，一种是靠自由基来做化学反应，另一种则是靠等离子作物理反应，以下将作更详细的说明。

（1）化学反应（Chemical reaction）在化学反应里常用的气体有氢气（H2）、氧气（O2）、甲烷（CF4）等，这些气体在电浆内反应成高活性的自由基，其方程式为：这些自由基会进一步与材料表面作反应。其反应机理主要是利用等离子体里的自由基来与材料表面做化学反应，在压力较高时，对自由基的产生较有利，所以若要以化学反应为主时，就必须控制较高的压力来近进行反应。

（2）物理反应（Physical reaction）主要是利用等离子体里的离子作纯物理的撞击，把材料表面的原子或附着材料表面的原子打掉，由于离子在压力较低时的平均自由基较轻长，有得能量的累积，因而在物理撞击时，离子的能量越高，越是有的作撞击，所以若要以物理反应为主时，就必须控制较的压力下来进行反应，这样清洗效果较好，为了进一步说明各种设备清洗的效果。等离子体清洗机的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看，等离子体清洗通常包括以下过程：无机气体被激发为等离子态；气相物质被吸附在固体表面；被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子；产物分子解析形成气相；反应残余物脱离表面。等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。等离子体清洗还具有以下几个特点：容易采用数控技术，自动化程度高；具有高精度的控制装置，时间控制的精度很高；正确的等离子体清洗不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证；由于是在真空中进行，不污染环境，保证清洗表面不被二次污染。

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到此，以上就是微星自动化小编对于表面等离子体清洗机的问题就介绍到这了，希望介绍关于表面等离子体清洗机的3点解答对大家有用。