真空等离子清洗设备♏真空等离子清洗设备厂家

比较好的等离子清洗机厂家是东信高科。深圳市东信高科自动化设备有限公司始创于1998年，是中国早期一批专业从事真空及大气低温等离孑体(电浆)技术、射频及微波等离子体技术研发、生产、销售于一体的国家_新技术企业。

大家好，今天微星自动化小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于真空等离子清洗设备的问题，于是微星自动化小编就整理了4个相关介绍真空等离子清洗设备的解答，让我们一起看看吧。

文章目录：

1. 等离子清洗机厂家
2. 等离子清洗机的清洗原理
3. 等离子清洗机为什么要真空
4. 等离子清洗机的介绍

一、等离子清洗机厂家

比较好的等离子清洗机厂家是东信高科。

深圳市东信高科自动化设备有限公司始创于1998年，是中国早前岁期一批专业从事真空及大气低温等离孑体(电浆)技术、射频及微波等离子体技术研发、生产、销售于一体的滚销国家_新技术企业。

目前公司设立有等离子事业部，超声清洗事业部，自动化设备事业部，塑胶焊接事业部。产品涉及等离子体表面处理设备,超声波_洗设备、电镀、制冷等环保自动化设备等。

东信高科产品介绍：

目前东信高科产品广泛服努于包装、塑料制品、通讯、汽车、家电、光电、纺织、半导体及精密制造行业在表面涂装、表面粘接、表面清洁方面尤为突_。

通过多年的市场实践及等离子新技术研究和应用,成功的推动了我国低温等离子技术在等离子体尘埃、晶体、材料合成、微米纳米技术、化工、环保、表面慧备睁聚合、表面接枝、表面刻蚀、表面催化、金属渗氮、化学合成和和气、液、固态物质的处理方面的发展。

二、等离子清洗机的清洗原理

等离子清洗机的清洗原理是在真空腔体里，型扒通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面，以达到清洗目的。

在这种情况下，等离子处理可以产生以下效果：

1、灰化表面有机层

污染物在真空和瞬时高温下的部分蒸发，污染物被高能离子粉碎并被真空带走。

紫外辐射破坏污染物，卜磨昌由于等离子体处理每秒钟只能穿透游胡几纳米，所以污染层不应该太厚。指纹也适用。

2、氧化物去除

这种处理包括使用氢或氢和氩的混合物。有时也采用两步流程。第一步是用氧气氧化表面5分钟，第二步是用氢和氩的混合物除去氧化层。它也可以同时用几种气体处理。

3、焊接

通常，印刷电路板应在焊接前用化学药剂处理。焊接后，这些化学物质必须用等离子体法去除，否则会引起腐蚀和其他问题。

扩展资料

等离子清洗/刻蚀机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长。

受电场作用，它们发生碰撞而形成等离子体，这些离子的活性很高，其能量足以破坏几乎所有的化学键，在任何暴露的表面引起化学反应，不同气体的等离子体具有不同的化学性能，如氧气的等离子体具有很高的氧化性，能氧化光刻胶反应生成气体，从而达到清洗的效果；腐蚀性气体的等离子体具有很好的各向异性，这样就能满足刻蚀的需要。

利用等离子处理时会发出辉光，故称之为辉光放电处理。

等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚酯、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。

参考资料来源：百度百科-等离子清洗机

三、等离子清洗机为什么要真空

等离子清洗机引起独特的技术，可以环保地将物体处理干净，并且需要派烂在真空中进行，那么，等离子清洗剂为什么要真空呢？接下来就由PChouse带大家了解一下吧。
1、引入真空室的气体在压力环境下不会电离，因此在充入气体电离产生等离子体之前必须达到真空环境。
2、控制真空室中气体种类对等离子处理体过程的可重复性是至关重要的，而真空环境就能允许我们控制真空室中的气体种类。
3、单一气体或者混合气体被引入密封的低码李压真空等离子体室，随后这些气体被两个电极板之间产生的射尘模漏频（RF）激活，这些气体中被激活的离子加速，开始震动，这种振动“用力擦洗”需要清洗材料表面的污染物。

四、等离子清洗机的介绍

Kimberlite等离子清洗设备。

1，清洗时间短，反应速度快：在气体放电瞬间发生等离子体反应，改变表面的性质可谨盯能就需要几秒；

2，等离子清洗温度低或接近常温，不会对材料造成损害；

3，等离子体是具有高能量，无需添加催化剂即可实现的反应，达到表面改性效果；

4，应用范围广，对处理对象无要求，均可进行表面性能改造；

5，等离子清洗有效控制企业的成本，易操作，可连续运行无需24小时看管散卖；

6，最后一点，也是非常重要的一祥掘和点。等离子清洗相比传统清洗更环保，不使用氯代烃清洗剂、水基清洗剂和碳氢溶剂等，不仅具有毒性、水处理繁琐、清洗效果较差以及不易干燥安全性。

普特勒电气科技公司专注于等离子技术产品的研发、应用与生产，通过等离子技术的进纳唤步，可以取代原有的低效率、重污染、高成本的生产工艺环节，为各个领域的工艺优化提供更好的方案。

主要技术产品：

低温大气洞银凯射频辉光等离子技术

低温大气射流等离子技术

低温中频真空等离子技术

低温射频真空等离子技术

PTL--普特勒低温大气射频辉光等离子技术

PTL普特勒公司通过多年射频电源的研发经验及对放电控制技术深入实验，成功实现了在大气压下的射频均匀辉光放电，使射频辉光放电不再需要真空状态，实现了最大2000mm的宽幅均匀辉光放电，并在多个领域实现应用。系统使用方便、性能稳定、低耗高效。

PTL-普特勒低温大气射频辉光等离子系统的应用领域

FPD 方面

LCD, LTPS, OLED等各种基板玻璃表面清洗和连接前工艺的设备，不需要真空排气。采用均匀大气压等离子，以大气压等离子的问题点Stremer或者Arc的产生为准则阻断，基板上无损坏的表面清洗工艺。另外多元电极和原有大气压等离子技术相比，扩张性比较容易，所以从第一代较小的基板开始到第十代3000mm扩大的大型基板都可以使用。

TSP 方面

触摸屏的主要工艺的清洗，提高OCA/OCR，压层，ACF，AR/AF涂层等工艺上的粘合力/涂层力，为去除气泡/异物，通过搏念多种大气压等离子形态的运用，可以将各种玻璃，薄膜均匀的大气压等离子放电使表面无损坏进行处理。

半导体 方面

半导体成型工艺，刻模工艺&焊接工艺，焊球连接&安装工艺的广泛使用可以提高芯片和环氧间的粘结力，和引线框架的安装和粘接力，板材和焊球之间的粘结力。防止半导体特性上的电气损坏或者容易发生的静电问题 ，可以采用多元系统技术。另外，因为可以根据硅片的大小制造大气压等离子，无论多小的等离子都可以适用。

到此，以上就是微星自动化小编对于真空等离子清洗设备的问题就介绍到这了，希望介绍关于真空等离子清洗设备的4点解答对大家有用。